SiC coating သည် chemical vapor deposition (CVD) လုပ်ငန်းစဉ်အားဖြင့် susceptor ပေါ်သို့ ပါးလွှာသောအလွှာဖြစ်သည်။ ဆီလီကွန်ကာဗိုက်ပစ္စည်းသည် ပြိုကွဲနေသောလျှပ်စစ်စက်ကွင်းအား 10 ဆ၊ အပူချိန်နှင့် ဓာတုပစ္စည်းခံနိုင်ရည်ရှိသောပစ္စည်းကိုပေးဆောင်သည့် တီးဝိုင်းကွာဟမှု 3x အပါအဝင်၊ ဆီလီကွန်ထက် အားသာချက်များစွာကို ပံ့ပိုးပေးပါသည်။
Semicorex သည် စိတ်ကြိုက်ဝန်ဆောင်မှုကို ပံ့ပိုးပေးသည်၊ ပိုမိုကြာရှည်ခံသော အစိတ်အပိုင်းများဖြင့် ဆန်းသစ်တီထွင်နိုင်စေရန်၊ လည်ပတ်ချိန်များကို လျှော့ချပေးပြီး အထွက်နှုန်းများ တိုးတက်စေပါသည်။
SiC coating တွင် ထူးခြားသော အားသာချက်များစွာရှိသည်။
မြင့်မားသောအပူချိန်ခုခံမှု- CVD SiC coated susceptor သည် သိသာထင်ရှားသောအပူရှိန်ပြိုကွဲခြင်းမရှိဘဲ မြင့်မားသောအပူချိန် 1600°C အထိခံနိုင်ရည်ရှိသည်။
ဓာတုခံနိုင်ရည်- ဆီလီကွန်ကာဗိုက်အလွှာသည် အက်ဆစ်၊ အယ်ကာလီနှင့် အော်ဂဲနစ်ပျော်ရည်များအပါအဝင် ဓာတုပစ္စည်းအမျိုးမျိုးကို ကောင်းစွာခံနိုင်ရည်ရှိစေသည်။
Wear Resistance- SiC coating သည် အလွန်ကောင်းမွန်သော ဝတ်ဆင်မှုဒဏ်ကို ခံနိုင်ရည်ရှိသော ပစ္စည်းကို ပံ့ပိုးပေးသောကြောင့် ၎င်းသည် ပြင်းထန်စွာ စုတ်ပြဲခြင်းနှင့် မျက်ရည်ယိုခြင်း ပါ၀င်သည့် အပလီကေးရှင်းများအတွက် သင့်လျော်စေသည်။
Thermal Conductivity- CVD SiC coating သည် ပစ္စည်းအား မြင့်မားသောအပူစီးကူးနိုင်စွမ်းကို ပေးစွမ်းပြီး ထိရောက်သော အပူလွှဲပြောင်းမှု လိုအပ်သော အပူချိန်မြင့်သော application များတွင် အသုံးပြုရန် သင့်လျော်ပါသည်။
မြင့်မားသော ကြံ့ခိုင်မှုနှင့် မာကျောမှု- ဆီလီကွန်ကာဘိုင်ဖြင့် ဖုံးအုပ်ထားသော susceptor သည် မြင့်မားသော ခိုင်ခံ့မှုနှင့် မာကျောမှုရှိသော ပစ္စည်းကို ပံ့ပိုးပေးသောကြောင့် ၎င်းသည် မြင့်မားသော စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ခွန်အားလိုအပ်သော အသုံးချမှုများအတွက် သင့်လျော်စေသည်။
SiC coating ကို အမျိုးမျိုးသော application များတွင် အသုံးပြုသည်။
LED ထုတ်လုပ်မှု- CVD SiC coated susceptor ကို အပြာရောင်နှင့် အစိမ်းရောင် LED၊ UV LED နှင့် deep-UV LED အပါအဝင် LED အမျိုးအစားအမျိုးမျိုး၏ ထုတ်လုပ်ရေးတွင် အသုံးပြုထားပြီး၊ ၎င်း၏ မြင့်မားသော အပူစီးကူးမှုနှင့် ဓာတုဗေဒ ခံနိုင်ရည်ရှိသောကြောင့် ဖြစ်သည်။
မိုဘိုင်းဆက်သွယ်ရေး- CVD SiC coated susceptor သည် GaN-on-SiC epitaxial လုပ်ငန်းစဉ်ကို အပြီးသတ်ရန် HEMT ၏ အရေးကြီးသော အစိတ်အပိုင်းတစ်ခုဖြစ်သည်။
Semiconductor Processing- CVD SiC coated susceptor ကို wafer processing နှင့် epitaxial growth အပါအဝင် အမျိုးမျိုးသော applications များအတွက် semiconductor လုပ်ငန်းတွင် အသုံးပြုပါသည်။
SiC coated graphite အစိတ်အပိုင်းများ
Silicon Carbide Coating (SiC) graphite ဖြင့်ပြုလုပ်ထားသောကြောင့် coating ကို CVD method ဖြင့် high density graphite grades များတွင် အသုံးပြုထားသောကြောင့် အပူချိန် 3000°C အထက်ရှိသော မီးဖိုထဲတွင် လည်ပတ်နိုင်ပြီး လေဟာနယ်တွင် 2200°C ရှိပါသည် .
ပစ္စည်း၏ အထူးဂုဏ်သတ္တိများနှင့် သေးငယ်သောထုထည်သည် လျင်မြန်သော အပူနှုန်းများ၊ တူညီသော အပူချိန်ဖြန့်ဖြူးမှုနှင့် ထိန်းချုပ်မှုတွင် ထူးခြားသောတိကျမှုကို ခွင့်ပြုပေးပါသည်။
Semicorex SiC Coating ၏ ပစ္စည်းဒေတာ
ရိုးရိုးဂုဏ်သတ္တိ |
ယူနစ် |
တန်ဖိုးများ |
ဖွဲ့စည်းပုံ |
|
FCC β အဆင့် |
တိမ်းညွှတ်မှု |
အပိုင်း (%) |
111 နှစ်ခြိုက်သည်။ |
အစုလိုက်သိပ်သည်းမှု |
g/cm³ |
3.21 |
မာကျောခြင်း။ |
Vickers မာကျောမှု |
2500 |
အပူစွမ်းရည် |
J kg-1 K-1 |
640 |
အပူပိုင်းချဲ့ထွင်မှု 100–600°C (212–1112°F) |
10-6K-1 |
4.5 |
Young's Modulus |
Gpa (4pt ကွေး၊ 1300 ℃) |
430 |
စပါးအရွယ်အစား |
µm |
၂~၁၀ |
Sublimation အပူချိန် |
℃ |
2700 |
Felexural Strength |
MPa (RT 4 မှတ်) |
415 |
အပူစီးကူးမှု |
(W/mK) |
300 |
နိဂုံး CVD SiC coated susceptor သည် susceptor နှင့် silicon carbide တို့၏ ဂုဏ်သတ္တိများ ပေါင်းစပ်ထားသော ပေါင်းစပ်ပစ္စည်းဖြစ်သည်။ ဤပစ္စည်းသည် မြင့်မားသော အပူချိန်နှင့် ဓာတုဗေဒ ခံနိုင်ရည်၊ အလွန်ကောင်းမွန်သော ဝတ်ဆင်မှု ခံနိုင်ရည်ရှိမှု၊ မြင့်မားသော အပူစီးကူးမှု၊ နှင့် မြင့်မားသော ကြံ့ခိုင်မှုနှင့် တောင့်တင်းမှု အပါအဝင် ထူးခြားသော ဂုဏ်သတ္တိများ ပါဝင်သည်။ ဤဂုဏ်သတ္တိများသည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာလုပ်ဆောင်ခြင်း၊ ဓာတုပြုပြင်ခြင်း၊ အပူကုသခြင်း၊ ဆိုလာဆဲလ်ထုတ်လုပ်ခြင်းနှင့် LED ထုတ်လုပ်ခြင်းအပါအဝင် အမျိုးမျိုးသော အပူချိန်မြင့်မားသောအသုံးချပရိုဂရမ်များအတွက် ဆွဲဆောင်မှုရှိသောပစ္စည်းတစ်ခုဖြစ်စေသည်။
Semicorex Sic COUTESTION trays များသည်စွမ်းဆောင်ရည်မြင့်လေယာဉ်တင်သင်္ဘောများအရ UV LED စက်မှုလုပ်ငန်းတွင် algan eplagaxial in တိုးတက်မှုအတွက်အထူးဒီဇိုင်းပြုလုပ်ထားသည်။ စက်မှုလုပ်ငန်း ဦး ဆောင်သည့်သန့်ရှင်းစင်ကြယ်ခြင်း, တိကျသောအင်ဂျင်နီယာများအတွက် Semicorex ကိုရွေးချယ်ပါ။
ပိုပြီးဖတ်ပါစုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။Sememorex CVD SIC COUTE နှင့်အတူ WAFRER Carrier သည်အဆင့်မြင့်စွမ်းဆောင်ရည်မြင့်မားသောဖြေရှင်းချက်အရအဆင့်မြင့်စွမ်းဆောင်ရည်မြင့်မားသောဖြေရှင်းချက်ဖြစ်သည်။ ၎င်း၏သာလွန်မြင့်မားသောအပူတည်ငြိမ်မှု, ဓာတုခုခံကာကွယ်မှုသည်ကမ္ဘာတစ်ဝှမ်းရှိ Semiconductor ထုတ်လုပ်သူများအတွက်စွမ်းဆောင်ရည်မြင့်မားခြင်း,
ပိုပြီးဖတ်ပါစုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။Semicorex ဂြိုဟ်တုပန်းကန်သည် Semiconductor EgitaxAxy ဓာတ်ပေါင်းဖိုများတွင်အသုံးပြုသောအရေးပါသောအစိတ်အပိုင်းတစ်ခုဖြစ်ပြီး Aixtron G5 + ပစ္စည်းကိရိယာများအတွက်အထူးဒီဇိုင်းပြုလုပ်ထားသည်။ Sememicorex သည်အဆင့်မြင့်ရုပ်ပစ္စည်းကျွမ်းကျင်မှုကိုပေါင်းစပ်ထားသောအစွန်းရှိသောနည်းပညာနှင့်ပေါင်းစပ်ပြီးစွမ်းဆောင်ရည်မြင့်မားသောနည်းပညာများဖြင့်ပေါင်းစပ်။ စွမ်းဆောင်ရည်မြင့်မားသောနည်းပညာများနှင့်ပေါင်းစပ်ပြီးစက်မှုလုပ်ငန်းအသုံးချမှုများပြုလုပ်ရန်အတွက်အံဝင်ခွင်ကျဖြစ်စေသည်။ *
ပိုပြီးဖတ်ပါစုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။Semicorex Planetary SUNTARECALEAPOR သည် CISTRON G5 + ဓာတ်ပေါင်းဖိုများနှင့်အတူယူနီဖောင်းအပူဖြန့်ဖြူးခြင်းနှင့်မြင့်မားသော epitaxial legaxial layer ကြီးထွားမှုကိုသေချာစေရန်ဒီဇိုင်းပြုလုပ်ထားသော cockron G5 + ဓာတ်ပေါင်းဖိုများအတွက်ဒီဇိုင်းပြုလုပ်ထားသည်။ *
ပိုပြီးဖတ်ပါစုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။Semicorex Sic Naturating Plat Part သည် Sic Epitagaxy ဖြစ်စဉ်တွင် 0 တ်ဆင်သောလေစီးဆင်းမှုအတွက်မရှိမဖြစ်လိုအပ်သော sic-coated graphite အစိတ်အပိုင်းတစ်ခုဖြစ်သည်။ Semicorex သည်မကိုက်ညီသောအရည်အသွေးနှင့်တိကျသောဖြေရှင်းနည်းများကိုအရည်အသွေးမပြည့်စုံသောဖြေရှင်းနည်းများကိုဖြည့်ဆည်းပေးသည်။
ပိုပြီးဖတ်ပါစုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။Semicorex SiC Coating Component သည် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်ခြင်းတွင် အဓိကကျသော SiC epitaxy လုပ်ငန်းစဉ်၏ လိုအပ်ချက်များနှင့် ကိုက်ညီရန် ဒီဇိုင်းထုတ်ထားသော မရှိမဖြစ်ပစ္စည်းတစ်ခုဖြစ်သည်။ ၎င်းသည် ဆီလီကွန်ကာဗိုက် (SiC) ပုံဆောင်ခဲများအတွက် ကြီးထွားမှုပတ်ဝန်းကျင်ကို အကောင်းဆုံးဖြစ်အောင် လုပ်ဆောင်ရာတွင် အရေးပါသော အခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်ပြီး နောက်ဆုံးထုတ်ကုန်၏ အရည်အသွေးနှင့် စွမ်းဆောင်ရည်ကို သိသိသာသာ ပံ့ပိုးပေးပါသည်။*
ပိုပြီးဖတ်ပါစုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။