PSS (Patterned Sapphire Substrate) etching carrier ကို LED ကိရိယာများ ဖန်တီးရာတွင် အသုံးပြုသည်။ PSS etching carrier သည် LED အသွင်သဏ္ဍာန်ပြုလုပ်သည့် ဂယ်လီယမ်နိုက်ထရိတ် (GaN) ပါးလွှာသောဖလင်၏ ကြီးထွားမှုအတွက် အလွှာတစ်ခုအနေဖြင့် ဆောင်ရွက်ပေးပြီး၊ ထို့နောက် ထွင်းထုခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်ကို တွေ့ကြုံခံစားရမည်ဖြစ်သည်။ ထို့ကြောင့် ၎င်းသည် မြင့်မားသော အပူနှင့် ချေးခံနိုင်ရည်ရှိသော ပစ္စည်းကို တောင်းဆိုသည်။ Semicorex SiC ဖြင့် ဖုံးအုပ်ထားသော PSS etching carrier သည် ဤတောင်းဆိုနေသော epitaxy ပစ္စည်းပရိုဂရမ်များအတွက် အထူးပြုလုပ်ထားသော အင်ဂျင်နီယာဖြစ်သည်။ သယ်ဆောင်သူသည် CVD နည်းလမ်းကို အသုံးပြု၍ ဆီလီကွန်ကာဗိုက်ဖြင့် ဖုံးအုပ်ထားပြီး မြင့်မားသောအပူစီးကူးမှုနှင့် အလွန်ကောင်းမွန်သော အပူဖြန့်ဖြူးဂုဏ်သတ္တိများရှိသည်။