တရုတ် CVD မီးဖို ထုတ်လုပ်သူများ၊ တင်သွင်းသူများ၊ စက်ရုံ

CVD မီးဖိုများသည် ဓာတုအခိုးအငွေ့ထွက်ခြင်း (CVD) လုပ်ငန်းစဉ်အတွက် အသုံးပြုသည်။ Chemical vapor deposition သည် အငွေ့ထွက်သော ရှေ့ပြေးဓာတ်ငွေ့များနှင့် အပူပေးထားသော မျက်နှာပြင်ကြားရှိ ဓာတုဗေဒတုံ့ပြန်မှုကို အသုံးပြု၍ ပါးလွှာသော ဖလင်တစ်ချပ်ကို အလွှာတစ်ခုပေါ်တွင် အပ်နှံသည့် လုပ်ငန်းစဉ်တစ်ခုဖြစ်သည်။

CVD မီးဖိုများတွင် ပုံမှန်အားဖြင့် လေဟာနယ်ခန်း၊ ဓာတ်ငွေ့ပေးပို့မှုစနစ်၊ အပူပေးစနစ်နှင့် မြေအောက်ခန်း ကိုင်ဆောင်ထားသူများ ပါဝင်ပါသည်။ ဖုန်စုပ်ခန်းကို အစစ်ခံသည့် ပတ်၀န်းကျင်မှ လေနှင့် အခြားဓာတ်ငွေ့များကို ဖယ်ရှားရန်အတွက် အညစ်အကြေးများကို အစစ်ခံခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်တွင် အနှောင့်အယှက်မဖြစ်စေရန် အသုံးပြုသည်။ ဓာတ်ငွေ့ပေးပို့သည့်စနစ်သည် ၎င်းတို့အလိုရှိသော ပါးလွှာသောဖလင်ကို တုံ့ပြန်သည့်နေရာတွင် ရှေ့ပြေးဓာတ်ငွေ့များကို ပေးပို့သည်။ တုံ့ပြန်မှုဖြစ်ပေါ်ရန်အတွက် အပူပေးစနစ်သည် အလွှာအား လိုအပ်သောအပူချိန်သို့ အပူပေးသည်။ အပ်နှံခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်အတွင်း အလွှာကို ကိုင်ဆောင်ထားရန် အသုံးပြုသည်။

CVD လုပ်ငန်းစဉ်တွင်၊ ရှေ့ပြေးဓာတ်ငွေ့များကို လေဟာနယ်ခန်းထဲသို့ ထည့်သွင်းပြီး ၎င်းတို့ ဆွေးမြေ့သွားကာ အပူပေးအလွှာပေါ်တွင် ပါးလွှာသော ဖလင်တစ်ခုအဖြစ် တုံ့ပြန်သည့် အပူချိန်တစ်ခုသို့ အပူပေးသည်။ အလိုရှိသော ဖလင်ဂုဏ်သတ္တိများ ရရှိစေရန် သေချာစေရန် အစစ်ခံပတ်ဝန်းကျင်၏ အပူချိန်နှင့် ဖိအားကို ဂရုတစိုက် ထိန်းချုပ်ထားသည်။

CVD မီးဖိုများကို ဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်မှုလုပ်ငန်းတွင် ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့်အသုံးပြုကြပြီး ဆားကစ်များနှင့် ဆိုလာဆဲလ်များကဲ့သို့သော မိုက်ခရိုအီလက်ထရွန်းနစ်ပစ္စည်းများထုတ်လုပ်ရန်အတွက် ပါးလွှာသောရုပ်ရှင်များကို အပ်နှံရန်အတွက် အသုံးပြုကြသည်။ ၎င်းတို့ကို အပေါ်ယံ၊ optical fibers နှင့် superconductors များကဲ့သို့သော အဆင့်မြင့်ပစ္စည်းများ ထုတ်လုပ်ရာတွင်လည်း အသုံးပြုပါသည်။