Semicorex Silicon Carbide Wafer Chuck သည် semiconductor epitaxial လုပ်ငန်းစဉ်တွင် မရှိမဖြစ်လိုအပ်သော အစိတ်အပိုင်းတစ်ခုဖြစ်သည်။ အရေးကြီးသောထုတ်လုပ်မှုအဆင့်များအတွင်း wafer များကို လုံခြုံစွာကိုင်ထားရန် ဖုန်စုပ်စက်အဖြစ် လုပ်ဆောင်သည်။ ကျွန်ုပ်တို့သည် အရည်အသွေးမြင့်ထုတ်ကုန်များကို အပြိုင်အဆိုင်စျေးနှုန်းများဖြင့် ပို့ဆောင်ကာ တရုတ်နိုင်ငံတွင် သင်၏ရေရှည်လက်တွဲဖော်အဖြစ် မိမိကိုယ်ကို ရပ်တည်ရန် ကတိပြုပါသည်။*
Semicorex Silicon Carbide Wafer Chuck သည် အထူးသဖြင့် အလွန်တိကျမှုနှင့် ယုံကြည်စိတ်ချရမှု လိုအပ်သည့် လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်မှု၏ တင်းကျပ်သောတောင်းဆိုချက်များကို ဖြည့်ဆည်းရန်အတွက် ပစ္စည်း၏ သာလွန်ဂုဏ်သတ္တိများကို မြှင့်တင်ပေးပါသည်။
ဆီလီကွန်ကာဗိုက်သည် ၎င်း၏ထူးခြားသော စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ခွန်အား၊ အပူတည်ငြိမ်မှုနှင့် ဓာတုဗေဒဆိုင်ရာ ပြတ်တောက်မှုတို့ကြောင့် ထင်ရှားကျော်ကြားသော ပစ္စည်းတစ်ခုဖြစ်သည်။ ဆီလီကွန်ကာဗိုက် Wafer Chuck တွင် ၎င်း၏ ခိုင်မာမှုနှင့် စွမ်းဆောင်ရည်ကို ထိန်းသိမ်းထားရန် အထူးသင့်လျော်ပြီး ဆီလီကွန်ဒတ်တာ epitaxy ၏ ပြင်းထန်သောအခြေအနေများအောက်တွင် အသုံးပြုရန် အထူးသင့်လျော်ပါသည်။ epitaxial ကြီးထွားမှုကာလအတွင်း၊ တစ်လွှာပြီးတစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းအလွှာတစ်ခု၏အလွှာတစ်ခုပေါ်သို့ရောက်ရှိပြီးတစ်ပြေးညီနှင့်အရည်အသွေးမြင့်အလွှာများကိုသေချာစေရန် wafer သည်လုံးဝတည်ငြိမ်မှုကိုပေးရန်လိုအပ်သည်။ SiC Wafer Chuck သည် wafer ၏ရွေ့လျားမှု သို့မဟုတ် ပုံပျက်သွားခြင်းကို ကာကွယ်ပေးသည့် ခိုင်မာပြီး တသမတ်တည်း လေဟာနယ်ကို ဖန်တီးခြင်းဖြင့် ၎င်းကို အောင်မြင်သည်။
SiC Wafer Chuck သည် အပူဒဏ်ကို ထူးထူးခြားခြား ခံနိုင်ရည်ရှိစေပါသည်။ တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း ထုတ်လုပ်ခြင်းတွင် လျင်မြန်သော အပူချိန်ပြောင်းလဲမှုများသည် အဖြစ်များပြီး ဤအတက်အကျများကို ခံနိုင်ရည်မရှိသော ပစ္စည်းများ အက်ကွဲခြင်း၊ ကွဲထွက်ခြင်း သို့မဟုတ် ပျက်ကွက်ခြင်းတို့ ဖြစ်နိုင်ပါသည်။ ဆီလီကွန်ကာဗိုက်၏အပူချဲ့ခြင်း၏နိမ့်ကျသောကိန်းဂဏန်းသည် ပြင်းထန်သောအပူချိန်ပြောင်းလဲမှုများအောက်တွင်ပင် ၎င်း၏ပုံသဏ္ဍာန်နှင့်လုပ်ဆောင်ချက်ကို ထိန်းသိမ်းထားနိုင်စေကာ wafer သည် epitaxial လုပ်ငန်းစဉ်အတွင်း ရွေ့လျားမှု သို့မဟုတ် လွဲချော်မှုအန္တရာယ်မရှိဘဲ လုံခြုံစွာထိန်းသိမ်းထားကြောင်း သေချာစေပါသည်။ ၎င်း၏အပူဂုဏ်သတ္တိများအပြင် ဆီလီကွန်ကာဗိုက်သည် chemical corrosion ကိုလည်း အလွန်ခံနိုင်ရည်ရှိသည်။ epitaxial လုပ်ငန်းစဉ်တွင် အချိန်ကြာလာသည်နှင့်အမျှ ပိုနည်းသော အကြမ်းပတမ်းပစ္စည်းများကို ပျက်စီးသွားစေနိုင်သည့် ဓာတ်ပြုဓာတ်ငွေ့များနှင့် အခြားသော ပြင်းထန်သော ဓာတုပစ္စည်းများကို အသုံးပြုခြင်းတို့ ပါဝင်လေ့ရှိသည်။ SiC Wafer Chuck ၏ ဓာတုဗေဒ အားနည်းမှုသည် ဤကြမ်းတမ်းသော ပတ်ဝန်းကျင်များကြောင့် မထိခိုက်ကြောင်း သေချာစေပြီး စွမ်းဆောင်ရည်ကို ထိန်းသိမ်းကာ ၎င်း၏ လုပ်ငန်းလည်ပတ်မှု သက်တမ်းကို သက်တမ်းတိုးစေပါသည်။ ဤဓာတုကြာရှည်ခံမှုသည် chuck အစားထိုးမှုအကြိမ်ရေကို လျှော့ချပေးရုံသာမက မြောက်မြားစွာသော ထုတ်လုပ်မှုသံသရာတစ်လျှောက် တစ်သမတ်တည်း စွမ်းဆောင်နိုင်မှုကိုလည်း သေချာစေကာ ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်၏ အလုံးစုံထိရောက်မှုနှင့် ကုန်ကျစရိတ်သက်သာမှုကို အထောက်အကူဖြစ်စေပါသည်။
တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်ခြင်းတွင် SiC Wafer Chucks ကို မွေးစားခြင်းသည် ပိုမိုမြင့်မားသောစွမ်းဆောင်ရည်၊ ပိုမိုယုံကြည်စိတ်ချရမှုနှင့် ပိုမိုကောင်းမွန်သောစွမ်းဆောင်ရည်ကို ပေးစွမ်းနိုင်သည့် စက်ပစ္စည်းများနှင့် နည်းပညာများကို စက်မှုလုပ်ငန်း၏ဆက်လက်လုပ်ဆောင်နေမှုကို ရောင်ပြန်ဟပ်စေသည်။ ဆီလီကွန်ကာဗိုက်ကဲ့သို့သော အဆင့်မြင့်ပစ္စည်းများ၏ အခန်းကဏ္ဍသည် ပိုမိုရှုပ်ထွေးလာပြီး အရည်အသွေးမြင့် ထုတ်ကုန်များ ၀ယ်လိုအား တိုးလာသည်နှင့်အမျှ ဆီလီကွန်ကာဗိုက်ကဲ့သို့သော အဆင့်မြင့်ပစ္စည်းများ၏ အခန်းကဏ္ဍသည် ပိုမိုအရေးပါလာမည်ဖြစ်သည်။ SiC Wafer Chuck သည် ထုတ်လုပ်မှုတွင် ခေတ်မီသော ပညာရပ်ဆိုင်ရာ တိုးတက်မှုကို တွန်းအားပေးနိုင်ပုံကို နမူနာပြပြီး မျိုးဆက်သစ် အီလက်ထရွန်နစ် စက်ပစ္စည်းများကို ပိုမိုတိကျမှုနှင့် လိုက်လျောညီထွေဖြစ်အောင် ထုတ်လုပ်နိုင်စေပါသည်။
Semicorex Silicon Carbide Wafer Chuck သည် အပူတည်ငြိမ်မှု၊ ဓာတုခံနိုင်ရည်နှင့် စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ခွန်အားတို့ကို ပေါင်းစပ်ခြင်းဖြင့် ပြိုင်ဘက်ကင်းသော စွမ်းဆောင်ရည်ကို ပေးစွမ်းသည့် semiconductor epitaxial လုပ်ငန်းစဉ်တွင် မရှိမဖြစ်လိုအပ်သော အစိတ်အပိုင်းတစ်ခုဖြစ်သည်။ အရေးကြီးသောထုတ်လုပ်မှုအဆင့်များအတွင်း wafer များကို လုံခြုံတိကျစွာ ကိုင်တွယ်ခြင်းအား အာမခံခြင်းဖြင့်၊ SiC Wafer Chuck သည် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးကိရိယာများ၏ အရည်အသွေးကို မြှင့်တင်ပေးရုံသာမက ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်၏ ထိရောက်မှုနှင့် ကုန်ကျစရိတ်သက်သာမှုကိုလည်း အထောက်အကူပြုပါသည်။