Sic အပူဝိုင်ယာကြိုး

Semicorex Sic အပူဖာဖိုးဖိုးဖိုးဖုန်မှုန့်သည် semiconductor လုပ်ကြံစာချုပ်သစ်တွင် Wafer Processing Enderate အတွက်တီထွင်ထုတ်လုပ်နိုင်သည့် semiconductor suprication အသစ်တွင်တီထွင်ဆန်းသစ်သောအပူပေးစက်ဖြစ်သည်CORON COROနှင့်မြင့်မားသောသန့်ရှင်းစင်ကြယ်Silicon carbide အပေါ်ယံပိုင်း။ အထူးဝိုင်ယာကြိုးသည်ဖိုက်ဒါနှင့်ကြာရှည်ခံမှုဆိုင်ရာကြာရှည်ခံမှုနှင့်ကာကွယ်စောင့်ရှောက်ရေးကိုအချိန်ကြာလာသည်နှင့်အမျှစွမ်းအင်ထိရောက်သောအပူပေးစက်ကိုအသုံးပြုသည်။ Sic Time Himentament သည် Wafers ကိုတစ်ပုံစံတည်းကိုတစ်ပုံစံတည်းကိုသာစားသုံးရန်နှင့်သတ်မှတ်ချက်ကိုရောက်ရှိရန်ဒီဇိုင်းပြုလုပ်ထားသည်။

SIC အပူဖာဖေးကို Confite ၏အပူဂုဏ်သတ္တိများနှင့်အရည်အသွေးလျှပ်စစ်ဂုဏ်သတ္တိများကြောင့်သန့်ရှင်းစင်ကြယ်သောဖိုက်များဖြင့်ပြုလုပ်သည်။ ဖိုက်ဖရက်သည်လျှပ်စစ်ဝန်အောက်ရှိလျင်မြန်စွာတုန့်ပြန်မှုနှင့်ထိရောက်သောအပူကိုသက်ရောက်စေသောအဓိကအပူလုပ်ဆောင်မှုကိုပေးသည်။ သိပ်သည်းသောမြင့်မားသောသန့်ရှင်းစင်ကြယ်သောစည်းလုံးညီညွတ်မှုသည်ဖြစ်နိုင်ချေရှိသောညစ်ညမ်းမှုရင်းမြစ်များမှဝိသေသလက်ခဏာကိုကာကွယ်ပေးသည်။ SIC Coating သည်အဝတ်အထည်များကိုဓာတုပစ္စည်းညစ်ညမ်းမှုမှကာကွယ်ပေးသည်။

SIC အပူဖယောင်းဝိုင်ယာယီ၏အဓိကအရည်အသွေးသည် wafer ကိုယူနီဖောင်းအပူပေးနိုင်သည့်စွမ်းရည်ဖြစ်သည်။ wafer ကိုဖြတ်ပြီးအပူချိန်အပြောင်းအလဲများသည်အထွက်နှုန်းချို့ယွင်းချက်များသို့မဟုတ်ဆုံးရှုံးမှုကိုဆုံးရှုံးစေနိုင်သည်။ Sic Time Heatament တွင်အလွန်ကောင်းမွန်သောအပူဓာတ်များနှင့်ဝိုင်ယာကြိုး၏ခိုင်မာသောဒီဇိုင်းသည်အပူဖြစ်စဉ်ထိန်းချုပ်ရေးအတွက်အပူဓာတ်ငွေ့များကိုကန့်သတ်ထားသည်။

SIC အပူဖယက်ဝမ်နာသည်စိတ်ကြိုက်ပြုလုပ်နိုင်သည်။ ဤစိတ်ကြိုက်ပြင်ဆင်ခြင်းသည်ဆီလီကွန်ကာဘန်း၏နည်းပညာကို 0 တ်စုံနည်းပညာဆိုင်ရာနည်းပညာကိုထိန်းချုပ်ရန်ခွင့်ပြုထားသည်။ SIC အပူဖယက်ဝမ်ဝှမ်းသည်မတူညီသောမီးဖိုဒီဇိုင်းများနှင့်မတူကွဲပြားသော wafer အရွယ်အစားနှင့်လုပ်ငန်းစဉ်ချက်ပြုတ်နည်းများပါရှိသည်။ ၎င်းသည်အထူးသဖြင့် semiconductor ထုတ်လုပ်သူများအတွက်အထူးသဖြင့်လက်ရှိဖြစ်စဉ်များကိုပိုမိုထိရောက်စွာလည်ပတ်နိုင်ပြီးစနစ်တကျစနစ်များနှင့်လိုက်ဖက်တဲ့စနစ်များနှင့်လိုက်ဖက်တဲ့ကိုထိန်းသိမ်းထားသည်။  စွမ်းဆောင်ရည်၏တတိယအင်္ဂါရပ်သည်ကြာရှည်ခံမှုဖြစ်သည်။ အပူချိန်မြင့်မားသော semiconductor ဖြစ်စဉ်များတွင်အပူပေးထားသောဒြပ်စင်သည်အလွန်ပြင်းထန်သောဓာတုဗေဒဆိုင်ရာပတ်ဝန်းကျင်နှင့်ထပ်ခါတလဲလဲအပူစက်ဘီးစီးခြင်းများနှင့်ထိတွေ့ခြင်းဖြစ်သည်။

semicorex sic အပူရှိန်ဝီကီဝြေမေ့၏ applications ၏ applications များကကျယ်ပြန့်သော semiconductor device suprication process လုပ်ငန်းစဉ်များကိုကျယ်ပြန့်စွာခင်းကျင်းစေသည်။ ဥပမာ epitaxial တိုးတက်မှုနှုန်းတွင်အပူပေးထားသောအရာသည်အရည်အသွေးမြင့်သောပုံဆောင်ခဲရုပ်ရှင်များကိုအပ်နှံရန်အတွက်တည်ငြိမ်ပြီးယူနီဖောင်းအလွှာအပူချိန်ကိုပေးသည်။