Semicorex SiC Coating Heater ၏ CVD SiC coating သည် Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) နှင့် Epitaxial Growth ကဲ့သို့သော လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် ကြုံတွေ့ရလေ့ရှိသော ကြမ်းတမ်းသော၊ အဆိပ်သင့်ခြင်းနှင့် ဓာတ်ပြုနိုင်သော ပတ်ဝန်းကျင်များမှ အပူဒြပ်စင်များကို ကာကွယ်ရာတွင် သာလွန်ကောင်းမွန်သော စွမ်းဆောင်ရည်ကို ပေးစွမ်းပါသည်။**
Semicorex SiC Coating Heater ၏ အားသာချက်များ
1. ဓာတ်ပြုနိုင်သောပတ်ဝန်းကျင်များအပေါ် ခိုင်မာသောကာကွယ်မှု
Semicorex SiC Coating Heater ၏ CVD SiC coating သည် MOCVD နှင့် EPI လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် ကြုံတွေ့နေရသည့် ဓာတ်ပြုမှုနှင့် အဆိပ်သင့်သော ပတ်ဝန်းကျင်များကို ခိုင်ခံ့စွာ ကာကွယ်ပေးရန် ဒီဇိုင်းထုတ်ထားသည်။ High-density SiC coating သည် အပူပေးသည့်ဒြပ်စင် ပျက်စီးခြင်းမှ ကာကွယ်ပေးပြီး ကြောက်မက်ဖွယ်ကောင်းသော အတားအဆီးတစ်ခုအဖြစ် လုပ်ဆောင်သည်။ ဤအကာအကွယ်သည် တသမတ်တည်းနှင့် ယုံကြည်စိတ်ချရသော စွမ်းဆောင်ရည်ကို သေချာစေပြီး စက်ရပ်ချိန်နှင့် ပြုပြင်ထိန်းသိမ်းရေးစရိတ်များကို လျှော့ချပေးသည်။
2. အပူဓာတ်တည်ငြိမ်မှုနှင့် စွမ်းဆောင်ရည်ကို မြှင့်တင်ထားသည်။
SiC coating ၏ထူးခြားသောအပူဂုဏ်သတ္တိများသည် ကျွန်ုပ်တို့၏အပူပေးစက်များ၏ ပိုမိုကောင်းမွန်သောအပူတည်ငြိမ်မှုနှင့် ထိရောက်မှုကိုဖြစ်စေသည်။ အပေါ်ယံပိုင်း၏ မြင့်မားသောအပူချိန်ကို မပျက်စီးစေဘဲ ခံနိုင်ရည်ရှိစေပြီး SiC Coating Heater သည် ၎င်းတို့၏ စွမ်းဆောင်ရည်ကို အချိန်ကြာမြင့်စွာ ထိန်းသိမ်းထားကြောင်း သေချာစေသည်။ ဤအပူတည်ငြိမ်မှုသည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာလုပ်ငန်းစဉ်များတွင် တိကျသောအပူချိန်ထိန်းချုပ်မှုရရှိစေရန်အတွက် အရေးကြီးပြီး စက်ပစ္စည်းအရည်အသွေးနှင့် အထွက်နှုန်းကို မြှင့်တင်ပေးပါသည်။
3. High Purity နှင့် Low Contamination
ကျွန်ုပ်တို့၏ SiC အပေါ်ယံပိုင်း၏ အလွန်မြင့်မားသော သန့်စင်မှုသည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်တွင် ညစ်ညမ်းမှုအနည်းဆုံးဖြစ်ကြောင်း သေချာစေသည်။ 5ppm ထက်နည်းသော အညစ်အကြေးများဖြင့်၊ ကျွန်ုပ်တို့၏ coating သည် semiconductor စက်ပစ္စည်းများ၏ စွမ်းဆောင်ရည်နှင့် ယုံကြည်စိတ်ချရမှုကို ထိခိုက်စေနိုင်သည့် မည်သည့်ညစ်ညမ်းစေမှုကိုမျှ မိတ်ဆက်ပေးခြင်းမရှိပါ။ ဆီမီးကွန်ဒတ်တာထုတ်လုပ်ရာတွင် လိုအပ်သော တင်းကြပ်သောစံချိန်စံညွှန်းများကို ထိန်းသိမ်းရန်အတွက် ဤမြင့်မားသောသန့်ရှင်းမှုသည် မရှိမဖြစ်လိုအပ်ပါသည်။
4. အကောင်းဆုံးစွမ်းဆောင်ရည်အတွက် စိတ်ကြိုက်ပြင်ဆင်နိုင်မှု
မတူညီသော မျက်နှာပြင်ကြမ်းတမ်းမှုနှင့် အပေါ်ယံအထူကိုပေးဆောင်ရန် SiC အပေါ်ယံပိုင်းလုပ်ငန်းစဉ်ကို အံဝင်ခွင်ကျဖြစ်စေရန် ကျွန်ုပ်တို့၏စွမ်းဆောင်နိုင်မှုသည် ကျွန်ုပ်တို့၏အပူပေးစက်များ၏ စွမ်းဆောင်ရည်ကို တိကျသောအပလီကေးရှင်းများအတွက် အကောင်းဆုံးဖြစ်အောင်လုပ်ဆောင်နိုင်စေပါသည်။ ဤစိတ်ကြိုက်ပြင်ဆင်မှုသည် SiC Coating Heater တစ်ခုစီကို ၎င်း၏ရည်ရွယ်အသုံးပြုမှုနှင့် ပြည့်စုံစွာကိုက်ညီကြောင်း သေချာစေပြီး ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်၏ အလုံးစုံထိရောက်မှုနှင့် ယုံကြည်စိတ်ချရမှုကို မြှင့်တင်ပေးပါသည်။
5. ကြာရှည်ခံမှုနှင့် အသက်ရှည်ခြင်း။
Semicorex SiC Coating Heater ၏ CVD SiC အပေါ်ယံပိုင်း၏ လွန်ကဲသော ကပ်ငြိမှုနှင့် တာရှည်ခံမှုသည် ပြင်းထန်သော အခြေအနေများအောက်တွင်ပင် အချိန်ကြာမြင့်စွာ ထိရောက်မှုရှိကြောင်း သေချာစေသည်။ ဤကြာရှည်ခံမှုသည် မကြာခဏ အစားထိုးခြင်းနှင့် ပြုပြင်ထိန်းသိမ်းမှု လိုအပ်မှုကို လျော့နည်းစေပြီး လုပ်ငန်းလည်ပတ်မှုကုန်ကျစရိတ်သက်သာခြင်းနှင့် ကုန်ထုတ်စွမ်းအားကို မြှင့်တင်ပေးသည်။ အလွှာ၏ကွဲအက်ခြင်းကို ခံနိုင်ရည်ရှိခြင်းက ၎င်း၏ကြာရှည်ခံမှုကို ပိုမိုတိုးတက်စေပြီး တသမတ်တည်းကာကွယ်မှုနှင့် စွမ်းဆောင်ရည်ကို သေချာစေသည်။
Semiconductor Manufacturing တွင်အသုံးချမှုများ
Semicorex SiC Coating Heater သည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်မှုလုပ်ငန်းအတွင်း အပူချိန်မြင့်မားသော လုပ်ငန်းစဉ်အမျိုးမျိုးတွင် မရှိမဖြစ်လိုအပ်ပါသည်။ ဤအပူပေးစက်များသည် အထူးအရေးကြီးသည်-
MOCVD လုပ်ငန်းစဉ်များ- သတ္တု-အော်ဂဲနစ် ဓာတု အငွေ့ထွက်ခြင်း သည် ဒြပ်ပေါင်း တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း များ ထုတ်လုပ်ရာတွင် အဓိက လုပ်ငန်းစဉ် တစ်ခု ဖြစ်သည်။ ထိုသို့သောပတ်ဝန်းကျင်တွင်၊ Semicorex SiC Coating Heater ၏ CVD SiC coating သည် အပူပေးစက်အား ခိုင်ခံ့သောကာကွယ်မှုပေးသည်၊၊ တသမတ်တည်းနှင့် ယုံကြည်စိတ်ချရသော စုဆောင်းမှုကိုသေချာစေသည်။
EPI လုပ်ငန်းစဉ်များ- Epitaxial Growth လုပ်ငန်းစဉ်များသည် တိကျသော အပူချိန်ထိန်းချုပ်မှုနှင့် ဓာတ်ပြုမှုဓာတ်ငွေ့များကို ကာကွယ်ရန် လိုအပ်ပါသည်။ ကျွန်ုပ်တို့၏ SiC coating သည် ဤအခြေအနေများတွင် ထူးချွန်ပြီး အပူဒြပ်စင်များ၏ သမာဓိနှင့် စွမ်းဆောင်ရည်ကို ထိန်းသိမ်းထားသည်။