> ထုတ်ကုန်များ

ထုတ်ကုန်များ

ထုတ်ကုန်အသစ်များ

View as

SiC Coated PSS Etching Carrier

epixial ကြီးထွားမှုနှင့် wafer ကိုင်တွယ်လုပ်ဆောင်မှုတွင်အသုံးပြုသော wafer သယ်ဆောင်သူများသည် မြင့်မားသောအပူချိန်နှင့် ပြင်းထန်သောဓာတုသန့်စင်မှုကို ခံနိုင်ရည်ရှိရပါမည်။ Semicorex SiC Coated PSS Etching Carrier သည် ဤတောင်းဆိုနေသော epitaxy စက်ကိရိယာဆိုင်ရာ အသုံးချပရိုဂရမ်များအတွက် အထူးပြုလုပ်ထားသော အင်ဂျင်နီယာဖြစ်ပါသည်။ ကျွန်ုပ်တို့၏ထုတ်ကုန်များသည် ကောင်းမွန်သောစျေးနှုန်းအားသာချက်ရှိပြီး ဥရောပနှင့် အမေရိကန်စျေးကွက်များစွာကို လွှမ်းခြုံထားသည်။ တရုတ်နိုင်ငံတွင် သင်၏ရေရှည်လက်တွဲဖော်ဖြစ်လာရန် ကျွန်ုပ်တို့ မျှော်လင့်ပါသည်။

ပိုပြီးဖတ်ပါ စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

LPE Epitaxial ကြီးထွားမှုအတွက် SiC Coated Barrel Susceptor

LPE Epitaxial Growth အတွက် Semicorex SiC Coated Barrel Susceptor သည် အချိန်ကြာမြင့်စွာ တသမတ်တည်းနှင့် ယုံကြည်စိတ်ချရသော စွမ်းဆောင်ရည်ကို ပေးစွမ်းရန် ဒီဇိုင်းထုတ်ထားသော စွမ်းဆောင်ရည်မြင့် ထုတ်ကုန်တစ်ခုဖြစ်သည်။ ၎င်း၏အပူပရိုဖိုင်၊ laminar ဓာတ်ငွေ့စီးဆင်းမှုပုံစံနှင့် ညစ်ညမ်းမှုကာကွယ်ခြင်းတို့သည် wafer ချစ်ပ်များပေါ်ရှိ အရည်အသွေးမြင့် epitaxial အလွှာများကြီးထွားမှုအတွက် စံပြရွေးချယ်မှုတစ်ခုဖြစ်သည်။ ၎င်း၏ စိတ်ကြိုက်ပြင်ဆင်နိုင်မှုနှင့် ကုန်ကျစရိတ်-ထိရောက်မှုတို့က ၎င်းကို စျေးကွက်တွင် ပြိုင်ဆိုင်မှုမြင့်မားသော ထုတ်ကုန်တစ်ခုဖြစ်စေသည်။

ပိုပြီးဖတ်ပါ စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

Barrel Receiver Epi စနစ်

Semicorex Barrel Susceptor Epi System သည် သာလွန်ကောင်းမွန်သော coating adhesion၊ သန့်ရှင်းစင်ကြယ်မှုနှင့် အပူချိန်မြင့်သော ဓာတ်တိုးဆန့်ကျင်မှုကို ပေးစွမ်းနိုင်သော အရည်အသွေးမြင့် ထုတ်ကုန်တစ်ခုဖြစ်သည်။ ၎င်း၏အပူပရိုဖိုင်း၊ laminar ဓာတ်ငွေ့စီးဆင်းမှုပုံစံနှင့် ညစ်ညမ်းမှုကာကွယ်ခြင်းတို့သည် wafer ချစ်ပ်များပေါ်တွင် epixial အလွှာများကြီးထွားမှုအတွက်စံပြရွေးချယ်မှုတစ်ခုဖြစ်သည်။ ၎င်း၏ ကုန်ကျစရိတ်-ထိရောက်မှုနှင့် စိတ်ကြိုက်ပြင်ဆင်နိုင်မှုတို့က ၎င်းကို စျေးကွက်တွင် ပြိုင်ဆိုင်မှုမြင့်မားသော ထုတ်ကုန်တစ်ခုဖြစ်စေသည်။

ပိုပြီးဖတ်ပါ စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

Liquid Phase Epitaxy (LPE) ဓာတ်ပေါင်းဖိုစနစ်

Semicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) Reactor System သည် အလွန်ကောင်းမွန်သော အပူစွမ်းဆောင်ရည်၊ အပူပရိုဖိုင်းနှင့် သာလွန်သော coating adhesion ကို ပေးစွမ်းသည့် ဆန်းသစ်တီထွင်ထားသော ထုတ်ကုန်တစ်ခုဖြစ်သည်။ ၎င်း၏မြင့်မားသောသန့်ရှင်းစင်ကြယ်မှု၊ အပူချိန်မြင့်မားသောဓာတ်တိုးဆန့်ကျင်မှုနှင့်ချေးခုခံမှုတို့က၎င်းကိုတစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးစက်လုပ်ငန်းတွင်အသုံးပြုရန်အကောင်းဆုံးရွေးချယ်မှုတစ်ခုဖြစ်သည်။ ၎င်း၏ စိတ်ကြိုက်ရွေးချယ်နိုင်သော ရွေးချယ်မှုများနှင့် ကုန်ကျစရိတ်-ထိရောက်မှုတို့က ၎င်းကို စျေးကွက်တွင် ပြိုင်ဆိုင်မှုမြင့်မားသော ထုတ်ကုန်တစ်ခု ဖြစ်စေသည်။

ပိုပြီးဖတ်ပါ စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

Barrel Reactor တွင် CVD Epitaxial Deposition

Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor သည် wafer ချစ်ပ်များပေါ်တွင် epixial အလွှာများကြီးထွားလာရန်အတွက် အလွန်အကြမ်းခံပြီး ယုံကြည်စိတ်ချရသော ထုတ်ကုန်တစ်ခုဖြစ်သည်။ ၎င်း၏ အပူချိန်မြင့်မားသော ဓာတ်တိုးဆန့်ကျင်မှုနှင့် သန့်ရှင်းစင်ကြယ်မှု မြင့်မားသောကြောင့် ၎င်းအား ဆီမီးကွန်ဒတ်တာလုပ်ငန်းတွင် အသုံးပြုရန် သင့်လျော်သည်။ ၎င်း၏အပူပရိုဖိုင်း၊ laminar ဓာတ်ငွေ့စီးဆင်းမှုပုံစံနှင့် ညစ်ညမ်းမှုကို ကာကွယ်ခြင်းသည် အရည်အသွေးမြင့် epixial အလွှာကြီးထွားမှုအတွက် စံပြရွေးချယ်မှုတစ်ခုဖြစ်သည်။

ပိုပြီးဖတ်ပါ စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

Barrel Reactor တွင် Silicon Epitaxial Deposition

တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်သည့်အက်ပ်များတွင်အသုံးပြုရန်အတွက် စွမ်းဆောင်ရည်မြင့်ဂရပ်ဖိုက်ခံကူကိရိယာကို လိုအပ်ပါက၊ Semicorex Silicon Epitaxial Deposition In Barrel Reactor သည် အကောင်းဆုံးရွေးချယ်မှုဖြစ်သည်။ ၎င်း၏သန့်ရှင်းမှုမြင့်မားသော SiC အပေါ်ယံပိုင်းနှင့် ထူးခြားသောအပူစီးကူးနိုင်မှုသည် သာလွန်သောကာကွယ်မှုနှင့် အပူဖြန့်ဖြူးမှုဂုဏ်သတ္တိများကို ပေးစွမ်းသောကြောင့် ၎င်းသည် စိန်ခေါ်မှုအရှိဆုံးပတ်ဝန်းကျင်တွင်ပင် ယုံကြည်စိတ်ချရပြီး တသမတ်တည်းစွမ်းဆောင်ရည်အတွက် ရွေးချယ်မှုဖြစ်စေသည်။

ပိုပြီးဖတ်ပါ စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

<...138 139 140 141 142...144 >