SiC Coating ဖြင့် Wafer Carriers

SiC Coating ပါရှိသော Semicorex Wafer Carriers များသည် ဓာတုအခိုးအငွေ့ထွက်ခြင်း (CVD) လုပ်ငန်းစဉ်များအတွင်း တသမတ်တည်း အပူချိန်ကို ထိန်းသိမ်းထားရန်အတွက် မရှိမဖြစ်လိုအပ်သော အပူတည်ငြိမ်မှုနှင့် လျှပ်ကူးနိုင်စွမ်းကို ပြသသည်။ ၎င်းသည် အရည်အသွေးမြင့် ပါးလွှာသောဖလင်နှင့် အပေါ်ယံသွင်ပြင်လက္ခဏာများရရှိရန်အတွက် အရေးပါသည့် အလွှာတစ်ခွင်တွင် တူညီသောအပူဖြန့်ဖြူးမှုကို သေချာစေသည်။

SiC Coating ပါသော Wafer Carriers များသည် တူညီသောအထူနှင့် မျက်နှာပြင် ချောမွေ့မှုကို အာမခံသည့် စံချိန်စံညွှန်းအတိအကျဖြင့် ထုတ်လုပ်ထားသည်။ wafer အများအပြားတွင် တသမတ်တည်း အပ်နှံနှုန်းများနှင့် ရုပ်ရှင်ဂုဏ်သတ္တိများ ရရှိရန်အတွက် ဤတိကျမှုသည် အရေးကြီးပါသည်။

SiC coating သည် မစိမ့်ဝင်နိုင်သော အတားအဆီးတစ်ခုအဖြစ် လုပ်ဆောင်ပြီး susceptor မှ အညစ်အကြေးများကို wafer သို့ ပျံ့နှံ့မှုမှ ကာကွယ်ပေးသည်။ ၎င်းသည် သန့်ရှင်းမှုမြင့်မားသော တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးကိရိယာများ ထုတ်လုပ်ရန်အတွက် အရေးကြီးသော ညစ်ညမ်းမှုအန္တရာယ်ကို လျော့နည်းစေသည်။ SiC Coating ပါသော Semicorex Wafer Carriers များ၏ ကြာရှည်ခံမှုသည် susceptor အစားထိုးမှု အကြိမ်ရေကို လျော့နည်းစေပြီး ပြုပြင်ထိန်းသိမ်းမှုစရိတ်စကများ သက်သာကာ တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း ထုတ်လုပ်သည့် လုပ်ငန်းများတွင် အချိန်ကုန်သက်သာစေသည်။

SiC Coating ပါသော Semicorex Wafer Carriers များသည် အရွယ်အစား၊ ပုံသဏ္ဍာန်နှင့် အပေါ်ယံအထူ ကွဲပြားမှုများအပါအဝင် သီးခြားလုပ်ငန်းစဉ်လိုအပ်ချက်များနှင့်ကိုက်ညီရန် စိတ်ကြိုက်ပြင်ဆင်နိုင်ပါသည်။ ဤပြောင်းလွယ်ပြင်လွယ်သည် မတူညီသော semiconductor ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်များ၏ ထူးခြားသောတောင်းဆိုချက်များကို လိုက်လျောညီထွေဖြစ်စေရန်အတွက် susceptor ကို ပိုမိုကောင်းမွန်အောင်ပြုလုပ်နိုင်စေပါသည်။ စိတ်ကြိုက်ရွေးချယ်မှုများသည် ပမာဏမြင့်မားစွာထုတ်လုပ်ခြင်း သို့မဟုတ် သုတေသနနှင့် ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုကဲ့သို့သော အထူးပြုအပလီကေးရှင်းများအတွက် အံဝင်ခွင်ကျဖြစ်စေသော susceptor ဒီဇိုင်းများကို ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်စေပြီး သီးသန့်အသုံးပြုမှုကိစ္စများအတွက် အကောင်းဆုံးစွမ်းဆောင်ရည်ကို အာမခံပါသည်။