TaC Coating Wafer Chuck

Semicorex TaC Coating Wafer Chuck ကို tantalum carbide (TaC) coating ဖြင့် ပြုလုပ်ထားပြီး graphite substrate တွင် အသုံးပြုထားသည်။ ပစ္စည်းများကို ဂရုတစိုက်ရွေးချယ်ခြင်းနှင့် စေ့စပ်သေချာသော အင်ဂျင်နီယာတို့သည် စက်မှုလုပ်ငန်းတွင် ဤထုတ်ကုန်၏ အရေးပါမှုကို မီးမောင်းထိုးပြပါသည်။

ဂရပ်ဖိုက်ပေါ်တွင် TaC coating ကိုအသုံးပြုခြင်း၏အဓိကအားသာချက်မှာ ဤပစ္စည်းများ၏အပူရှိန်ချဲ့ထွင်ခြင်းဂုဏ်သတ္တိများဖြစ်သည်။ အပူချဲ့ထွင်ခြင်း (CTE) သည် အပူရှိသောအခါ ပစ္စည်းတစ်ခု မည်မျှ တိုးလာသည်ကို တိုင်းတာသည်။ တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်ခြင်းတွင်၊ အပေါ်ယံလွှာ၏ CTE သည် အလွှာ၏အောက်ခံနှင့် နီးကပ်စွာကိုက်ညီမှုရှိရန် အရေးကြီးပါသည်။ သိသာထင်ရှားသော မကိုက်ညီမှုသည် ဖိအားများနှင့် အပေါ်ယံပိုင်း၏ နောက်ဆုံးတွင် ပျက်ကွက်ခြင်းသို့ ဦးတည်သွားစေနိုင်သည်။ CTE သည် TaC နှင့် အလွန်နီးစပ်သော ဂရပ်ဖိုက်ပစ္စည်းကို ရွေးချယ်ခြင်းဖြင့်၊ TaC အပေါ်ယံပိုင်းသည် ဂရပ်ဖိုက်အလွှာနှင့် ခိုင်ခံ့မြဲမြံစွာ လိုက်နာကြောင်း သေချာစေပါသည်။ ဤလိုက်ဖက်ညီမှုသည် delamination ဖြစ်နိုင်ခြေကို လျော့နည်းစေပြီး TaC Coating Wafer Chuck ၏ လုပ်ငန်းလည်ပတ်မှုသက်တမ်းကို သက်တမ်းတိုးစေသည်။

TaC အပေါ်ယံပိုင်းသည် TaC Coating Wafer Chuck ၏ မာကျောမှုနှင့် ခံနိုင်ရည်အား မြှင့်တင်ပေးသည်၊၊ epitaxy လုပ်ငန်းစဉ်၏ ထပ်ခါတလဲလဲ လည်ပတ်စဉ်အတွင်း တိကျပြီး တည်ငြိမ်သော စွမ်းဆောင်ရည်ကို ထိန်းသိမ်းရန်အတွက် အရေးကြီးပါသည်။ TaC ၏ မြင့်မားသော အရည်ပျော်မှတ်သည် TaC Coating Wafer Chuck သည် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း ထုတ်လုပ်ရာတွင် ပျက်စီးခြင်းမရှိဘဲ ပြင်းထန်သောအပူချိန်ကို ခံနိုင်ရည်ရှိစေရန် အာမခံပါသည်။ ထို့အပြင်၊ TaC ၏ ဓာတုမတည်ငြိမ်မှုသည် epitaxy လုပ်ငန်းစဉ်တွင် အသုံးပြုသည့် အခြားဓာတ်ပြုပစ္စည်းများနှင့် နောက်ခံဂရပ်ဖိုက်များကို အဆိပ်သင့်စေသောဓာတ်ငွေ့များနှင့် အကာအကွယ်ပေးသည်။

လက်တွေ့အားဖြင့်၊ ဤပစ္စည်းဂုဏ်သတ္တိများသည် သိသာထင်ရှားသော စွမ်းဆောင်ရည်တိုးတက်မှုများကို ဦးတည်စေသည်။ TaC Coating Wafer Chuck ၏ ပိုမိုကောင်းမွန်သော ကြာရှည်ခံမှုနှင့် တည်ငြိမ်မှုသည် အစားထိုးမှုအနည်းငယ် လိုအပ်ပြီး စက်ရပ်ချိန်နှင့် ပြုပြင်ထိန်းသိမ်းမှုကုန်ကျစရိတ်များကို လျှော့ချပေးသည်။ မြင့်မားသောအပူတည်ငြိမ်မှုသည် တောင်းဆိုမှုအများဆုံးအခြေအနေများအောက်တွင်ပင် တစ်သမတ်တည်းစွမ်းဆောင်ရည်ကိုသေချာစေပြီး ဆီမီးကွန်ဒတ်တာထုတ်လုပ်ခြင်းတွင် အထွက်နှုန်းပိုမိုမြင့်မားစေသည်။

Semicorex TaC Coating Wafer Chuck သည် အဆင့်မြင့်ပစ္စည်းများ အင်ဂျင်နီယာနှင့် တွေးခေါ်မြော်မြင်သော ဒီဇိုင်းကို ပြသထားသည်။ tantalum carbide နှင့် graphite တို့၏ ဂုဏ်သတ္တိများကို ပေါင်းစပ်ခြင်းဖြင့်၊ ကျွန်ုပ်တို့သည် semiconductor epitaxy လုပ်ငန်းစဉ်များ၏ ပြင်းထန်သော တောင်းဆိုချက်များနှင့် ကိုက်ညီသော ထုတ်ကုန်တစ်ခုကို တီထွင်ခဲ့ပါသည်။ ၎င်း၏ သာလွန်သော ကြာရှည်ခံမှု၊ အပူတည်ငြိမ်မှုနှင့် ဓာတုဗေဒ ခံနိုင်ရည်တို့က ၎င်းအား ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းတွင် မရှိမဖြစ်လိုအပ်သော အစိတ်အပိုင်းတစ်ခု ဖြစ်လာစေသည်။ ဤဆန်းသစ်တီထွင်သောချဉ်းကပ်မှုသည် စွမ်းဆောင်ရည်နှင့် ယုံကြည်စိတ်ချရမှုကို မြှင့်တင်ပေးရုံသာမက ပိုမိုရေရှည်တည်တံ့ပြီး ကုန်ကျစရိတ်သက်သာသော ကုန်ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းများကိုလည်း အထောက်အကူပြုပါသည်။ ဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်မှုလုပ်ငန်းသည် ဆက်လက်တိုးတက်ပြောင်းလဲလာသည်နှင့်အမျှ TaC Coating Wafer Chuck သည် မျိုးဆက်သစ်နည်းပညာများ၏စိန်ခေါ်မှုများကို ရင်ဆိုင်ရန် အသင့်ရှိနေပါသည်။