လက်ခံသူအချပ်

မြင့်မားသောသန့်ရှင်းမှုဂရပ်ဖိုက်ဖြင့်ပြုလုပ်ထားပြီး MOCVD နည်းပညာကို အသုံးပြု၍ ဆီလီကွန်ကာဗိုက်အလွှာဖြင့် ဖုံးအုပ်ထားသည့် Semicorex Susceptor Disc သည် ထူးခြားသောအပူဂုဏ်သတ္တိများကို ထူးထူးခြားခြား ဓာတုတည်ငြိမ်မှုဖြင့် ပေါင်းစပ်ထားသည်။ ဆီလီကွန်ကာဗိုက်အလွှာသည် မြင့်မားသောအပူချိန်နှင့် အဆိပ်အတောက်ဖြစ်စေသောအခြေအနေများကို ကောင်းစွာခံနိုင်ရည်ရှိစေကာ စိန်ခေါ်မှုရှိသောပတ်ဝန်းကျင်တွင် Susceptor Disc ၏သမာဓိကိုထိန်းသိမ်းရန်အတွက် အရေးကြီးပါသည်။

ထို့အပြင်၊ Susceptor Disc ရှိ SiC coating သည် တစ်သမတ်တည်း epitaxial ကြီးထွားမှုအတွက် အရေးကြီးသော လျင်မြန်ပြီး အပူဖြန့်ဖြူးမှုကိုပင် ခွင့်ပြုပေးသည့် ၎င်း၏အပူစီးကူးမှုကို မြှင့်တင်ပေးပါသည်။ ၎င်းသည် အပူကို ထိရောက်စွာ စုပ်ယူနိုင်ပြီး ဖြာထွက်ကာ ပါးလွှာသော ဖလင်များ စုပုံခြင်းအတွက် မရှိမဖြစ် လိုအပ်သော တည်ငြိမ်ပြီး တူညီသော အပူချိန်ကို ပေးစွမ်းသည်။ အဆင့်မြင့် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ စက်ပစ္စည်းများ၏ လုပ်ဆောင်နိုင်စွမ်းနှင့် စွမ်းဆောင်ရည်အတွက် အခြေခံကျသော အရည်အသွေးမြင့် epitaxial အလွှာများ ရရှိရန်အတွက် ဤတူညီမှုသည် အရေးကြီးပါသည်။

Susceptor Disc ၏ ဒီဇိုင်းသည် အပူချဲ့ထွင်ခြင်း၏ စိန်ခေါ်မှုကို ဖြေရှင်းပေးပါသည်။ ၎င်း၏အပူချဲ့ခြင်း၏ အနည်းငယ်မျှသာသော ကိန်းဂဏန်းသည် အပူစက်ဘီးစီးခြင်းကြောင့် ကွဲအက်နိုင်ခြေကို လျှော့ချပေးပြီး epitaxial အလွှာများနှင့် ခိုင်ခံ့သောနှောင်ကြိုးကို သေချာစေသည်။ Susceptor Disc ၏ မြင့်မားသော အရည်ပျော်မှတ်နှင့် ဓာတ်တိုးဆန့်ကျင်မှု ခံနိုင်ရည်တို့နှင့်အတူ ဤအင်္ဂါရပ်သည် ပြင်းထန်သောအခြေအနေများအောက်တွင် ယုံကြည်စိတ်ချရသော လည်ပတ်မှုကို ခွင့်ပြုပေးပါသည်။

ဤအဆင့်မြင့်ဂုဏ်သတ္တိများဖြင့် Susceptor Disc သည် ခေတ်မီ MOCVD အပလီကေးရှင်းများ၏ တင်းကြပ်သောလိုအပ်ချက်များနှင့် ကိုက်ညီရုံသာမက၊ epitaxial ကြီးထွားမှုလုပ်ငန်းစဉ်၏ အလုံးစုံထိရောက်မှုနှင့် အထွက်တိုးမှုကို မြှင့်တင်ပေးသည့် ယုံကြည်စိတ်ချရသော၊ စွမ်းဆောင်ရည်မြင့်သည့်ဖြေရှင်းချက်ကို ပေးဆောင်သည်။