SiC ICP Etching Disk

Semicorex SiC ICP Etching Disk သည် အစိတ်အပိုင်းများမျှသာမဟုတ်ပါ။ ဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်မှုလုပ်ငန်းသည် အသေးစားအလတ်စားပြုလုပ်ခြင်းနှင့် စွမ်းဆောင်ရည်ကို မညှာမတာလိုက်စားခြင်းကြောင့် SiC ကဲ့သို့သော အဆင့်မြင့်ပစ္စည်းများအတွက် ဝယ်လိုအားသည် ပြင်းထန်လာမည်ဖြစ်သည်။ ၎င်းသည် ကျွန်ုပ်တို့၏နည်းပညာဖြင့်မောင်းနှင်သောကမ္ဘာကိုအားဖြည့်ရန် လိုအပ်သောတိကျမှု၊ ယုံကြည်စိတ်ချရမှုနှင့်စွမ်းဆောင်ရည်ကိုသေချာစေသည်။ကျွန်ုပ်တို့သည် Semicorex မှအရည်အသွေးမြင့်မားသောကုန်ကျစရိတ်သက်သာသော SiC ICP Etching Disk ကိုထုတ်လုပ်ခြင်းနှင့်ထောက်ပံ့ခြင်းအတွက်ရည်ရွယ်ပါသည်။**

စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

ကုန်ပစ္စည်းအကြောင်းအရာ

Semicorex SiC ICP Etching Disk ကို မွေးစားခြင်းသည် လုပ်ငန်းစဉ် ပိုမိုကောင်းမွန်အောင်၊ ယုံကြည်စိတ်ချရမှုနှင့် နောက်ဆုံးတွင် သာလွန်ကောင်းမွန်သော တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးကိရိယာ စွမ်းဆောင်ရည်အတွက် ဗျူဟာမြောက် ရင်းနှီးမြှုပ်နှံမှုကို ကိုယ်စားပြုသည်။ အကျိုးကျေးဇူးများမှာ မြင်သာထင်သာရှိပါသည်-

ပိုကောင်းအောင် ထွင်းထုခြင်း တိကျမှုနှင့် တူညီမှု-SiC ICP Etching Disk ၏ သာလွန်ကောင်းမွန်သော အပူပိုင်းနှင့် အတိုင်းအတာ တည်ငြိမ်မှုသည် ပိုမိုတူညီသော ခြစ်ရာနှုန်းထားများနှင့် တိကျသောအင်္ဂါရပ်များကို ထိန်းချုပ်နိုင်စေရန် ပံ့ပိုးပေးကာ wafer-to-wafer ကွဲလွဲမှုကို လျှော့ချပေးပြီး စက်ပစ္စည်းအထွက်နှုန်းကို တိုးတက်စေသည်။

တိုးချဲ့ထားသော Disk သက်တမ်း-SiC ICP Etching Disk ၏ ထူးခြားသော မာကျောမှုနှင့် ခံနိုင်ရည်ရှိမှုနှင့် သံချေးတက်မှုကို ခံနိုင်ရည်ရှိခြင်းသည် သမားရိုးကျပစ္စည်းများနှင့် နှိုင်းယှဉ်ပါက အစားထိုးကုန်ကျစရိတ်နှင့် စက်ရပ်ချိန်များကို လျှော့ချပေးသည်။

စွမ်းဆောင်ရည်မြှင့်တင်ရန်အတွက် ပေါ့ပါးသည်-၎င်း၏ထူးခြားသောအစွမ်းသတ္တိရှိသော်လည်း SiC ICP Etching Disk သည် အံ့သြစရာကောင်းလောက်အောင် ပေါ့ပါးသောပစ္စည်းဖြစ်သည်။ ဤအောက်ပိုင်းဒြပ်ထုသည် လည်ပတ်နေစဉ်အတွင်း လျော့ရဲသော inertial အင်အားစုများအဖြစ် ဘာသာပြန်ကာ အရှိန်နှင့် အရှိန်လျော့သွားသည့် စက်ဝန်းများကို ပိုမိုမြန်ဆန်စေပြီး၊ လုပ်ငန်းစဉ်အ၀င်အထွက်နှင့် စက်ပစ္စည်းများ၏ စွမ်းဆောင်ရည်ကို မြှင့်တင်ပေးသည်။

တိုးမြှင့်ထားသော ထုတ်ကုန်နှင့် ကုန်ထုတ်စွမ်းအား-SiC ICP Etching Disk ၏ပေါ့ပါးသောသဘောသဘာဝနှင့် လျင်မြန်သောအပူစက်ဘီးစီးခြင်းကို ခံနိုင်ရည်ရှိခြင်းသည် လုပ်ဆောင်ချိန်ပိုမိုမြန်ဆန်စေပြီး သွင်းအားကိုတိုးလာစေကာ စက်ပစ္စည်းအသုံးပြုမှုနှင့် ကုန်ထုတ်စွမ်းအားကို မြှင့်တင်ပေးပါသည်။

ညစ်ညမ်းမှုအန္တရာယ်ကို လျှော့ချသည်-SiC ICP Etching Disk ၏ ဓာတုဗေဒ အားနည်းမှုနှင့် plasma etching ကို ခံနိုင်ရည်ရှိခြင်းသည် အမှုန်အမွှားများ ညစ်ညမ်းမှုအန္တရာယ်ကို လျော့နည်းစေပြီး ထိလွယ်ရှလွယ် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးတာ လုပ်ငန်းစဉ်များ၏ သန့်ရှင်းစင်ကြယ်မှုကို ထိန်းသိမ်းရန်နှင့် စက်ပစ္စည်း အရည်အသွေးကို အာမခံရန် အရေးကြီးပါသည်။

CVD နှင့် Vacuum Sputtering Applications-ထွင်းထုခြင်းအပြင် SiC ICP Etching Disk ၏ထူးခြားသောဂုဏ်သတ္တိများသည် အပူချိန်မြင့်မားမှုနှင့် ဓာတုဓာတ်မတည်မှုတို့မရှိမဖြစ်လိုအပ်သော ဓာတုအငွေ့များထွက်ပေါက် (CVD) နှင့် လေဟာနယ်လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် အသုံးပြုရန်အတွက် သင့်လျော်စေသည်။