SIC coated plate

semicorex sic coated Plate သည်အရည်အသွေးမြင့်မားသောရုပ်ရှင်များကိုဖန်တီးရန်အတွက် Epi (EPI) တိုးတက်မှုပစ္စည်းကိရိယာများအတွက်အထူးဒီဇိုင်းပြုလုပ်ထားသောအင်ဂျင်နီယာမြင့်မားသောစွမ်းဆောင်ရည်ဆိုင်ရာအစိတ်အပိုင်းတစ်ခုဖြစ်သည်။ Sicalon Carbide (SIC) နှင့်ပေါင်းစပ်ထားသောစွမ်းအင်တည်ငြိမ်မှုနှင့်မျက်နှာပြင်ကြာရှည်စွာပေါင်းစပ်ထားသောကြီးမားသောစွမ်းအင်သန့်စင်ခြင်းများနှင့်ပေါင်းစပ်ထားသောမြင့်မားသောအပူခံနိုင်မှုနှင့်ဖွဲ့စည်းထားသောမြင့်မားသောအပူခံနိုင်ရည်ရှိခြင်း Sememorex Sic Cuctated Plate သည် Sic နှင့် Gan တို့အပါအ 0 င်ရေကန်များရှိ semiconductors များအတွက် EpitxAxial လုပ်ငန်းစဉ်များ၏ပြင်းထန်သောတင်းကျပ်မှုကိုရေရှည်တည်တံ့စေရန်တည်ဆောက်ထားသည်။

SIC coated plate ၏ဂစ်ဖ္ပွမှုသည်ထူးခြားသောအပူစီးကူးခြင်း, Graphite Core ၏အတန်အသင့်အပူအနိမ့်ဆုံးအနိမ့်ဆုံးသည်အလွန်ကောင်းသောအပူစီးကူးခြင်းဖြင့်ဟန်ချက်ညီစွာမျှတမှုရှိသည့်အပြင်အပူချိန်မြင့်မားသောစက်ဘီးများ၌အပူချိန်မြင့်မားသောလုပ်ငန်းစဉ်တွင်အညီအမျှဖြန့်ဝေရန်ခွင့်ပြုပါ။ ဓာတုအခိုးအငွေ့စုဆောင်းမှု (CVD) ဖြင့်အပ်နှံထားသောပြင်ပအလွှာ (CVD) တွင်သိုလှောင်ထားသည့်အကာအကွယ်အခက်အခဲများကန့်သတ်ခြင်း, ချေးခြင်းခံနိုင်ရည်ရှိခြင်း, ဒီအစိုင်အခဲဒြပ်စင်မျက်နှာပြင်ဟာဖိုက်ခွငျးအတိုင်းအတာရဲ့ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာဝိသေသလက္ခဏာများနှင့်အတူပေါင်းစပ်,

ရှုထောင့်တိကျစွာနှင့်မျက်နှာပြင်ပြားများသည် sic coated plate ၏မရှိမဖြစ်လိုအပ်သော attribute များဖြစ်သည်။ ပန်းကန်တစ်ခုချင်းစီကိုစက်ဆုပ်ရွံရှာဖွယ်ကောင်းသောနှင့်ထပ်ခါတလဲလဲလုပ်ဆောင်နိုင်မှုကိုသေချာစေရန်တင်းကျပ်စွာသည်းခံနိုင်ရန်တင်းတင်းကျပ်ကျပ်သည်းခံခြင်းဖြင့်ဖုံးအုပ်ထားသည်။ ချောချောမွေ့မွေ့နှင့် inert မျက်နှာပြင်သည်မလိုလားအပ်သောရုပ်ရှင်အယူအဆအတွက် Nucleation ဆိုဒ်များကိုလျော့နည်းစေပြီးပန်းကန်မျက်နှာပြင်ကိုဖြတ်ပြီး wafer တူညီမှုကိုတိုးတက်စေသည်။

Estitaxial ဓာတ်ပေါင်းဖိုများတွင် sic coated plate သည်ပုံမှန်အားဖြင့်ဖွဲ့စည်းတည်ဆောက်ပုံကိုပေးရန်နှင့်အပူပေးရန်အပူလွှဲပြောင်းခြင်းအလတ်စားအဖြစ်လုပ်ဆောင်ရန်နှင့်အပူလွှဲပြောင်းခြင်းအလတ်စားအဖြစ်ဆောင်ရွက်သည်။ တည်ငြိမ်သောစွမ်းဆောင်ရည်သည်ကြည်လင်အရည်အသွေး, အထွက်နှုန်းနှင့်ကုန်ထုတ်စွမ်းအားကိုတိုက်ရိုက်သက်ရောက်နိုင်သည်။