Etching သို့မဟုတ် etching သည် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်ခြင်း၊ မိုက်ခရိုအီလက်ထရွန်းနစ် IC ထုတ်လုပ်မှုနှင့် မိုက်ခရို/နာနိုထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်များတွင် အရေးကြီးသောအဆင့်တစ်ခုဖြစ်သည်။ ၎င်းသည် photolithography နှင့်ဆက်စပ်သော အဓိကပုံစံပုံဖော်ခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်ဖြစ်သည်။ ကျဉ်းမြောင်းသောသဘောအရ etching ......
ပိုပြီးဖတ်ပါဆီလီကွန်နိုက်ထရိတ် (Si₃N₄) သည် 320 W/(m·K) ဝန်းကျင်ရှိ ပင်ကိုယ်အပူစီးကူးနိုင်မှုရှိသော တည်ဆောက်ပုံကြွေထည်ပစ္စည်းတစ်ခုဖြစ်ပြီး၊ မြင့်မားသောအပူစီးကူးမှုနှင့် ထူးခြားသောစက်ပိုင်းဆိုင်ရာဂုဏ်သတ္တိများပါရှိသည်။ ပတ်ဝန်းကျင် အပူချိန်တွင် သာလွန်ကောင်းမွန်သော တည်ငြိမ်မှု ကြောင့် Si₃N₄ သည် ခေတ်မီ ဆီမီးကွန်ဒတ်တ......
ပိုပြီးဖတ်ပါအဆင့်မြင့်တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်ခြင်းတွင်၊ SiO₂ ရုပ်ရှင်များသည် ယေဘုယျအားဖြင့် အလွှာအပေါ်ယံမျက်နှာပြင်ကုသမှုအတွက် ဓာတ်တိုးခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်များမှတစ်ဆင့် ဖန်တီးကြပြီး ၎င်းတို့၏အသုံးများသောအသုံးချမှုများတွင် dopant barrier အလွှာများ၊ မျက်နှာပြင်လျှပ်ကာအလွှာများ၊ gate oxide အလွှာများ၊ field ox......
ပိုပြီးဖတ်ပါနည်းပညာများ တိုးတက်လာသည်နှင့်အမျှ၊ မိုဘိုင်းလ်ဖုန်း၊ ကွန်ပျူတာများ၊ လျှပ်စစ်ကားများနှင့် စက်ရုပ်များကဲ့သို့သော စမတ်ထုတ်ကုန်များသည် လူတို့၏ဘဝထဲသို့ ပေါင်းစည်းလာကြသည်။ ဤထုတ်ကုန်များတွင် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ ချစ်ပ်ပြားအများအပြားပါဝင်ပြီး ချစ်ပ်ပြားထုတ်လုပ်ရာတွင် ထွင်းထုစက်များ၊ လျှပ်ကူးစက်များ၊ နှင့် အိုင်းယ......
ပိုပြီးဖတ်ပါHR-Si သည် ၎င်း၏အမည်အရ ခုခံနိုင်စွမ်းမြင့်သော ဆီလီကွန်ဝေဖာများ (HR-Si) သည် အလွန်ခံနိုင်ရည်မြင့်မားသော monocrystalline ဆီလီကွန်ပစ္စည်းဖြစ်သည်။ အဆင့်မြင့် semiconductor ထုတ်လုပ်မှုနယ်ပယ်တွင်၊ high-frequency loss သည် high-end chip design တွင် အဓိကစိန်ခေါ်မှုတစ်ခုဖြစ်လာသည်။ ၎င်း၏အလွန်မြင့်မားသောခုခံနိုင်......
ပိုပြီးဖတ်ပါFocus ring၊ လျော်ကြေးလက်စွပ် သို့မဟုတ် ချုပ်နှောင်ခြင်းလက်စွပ်ဟုလည်း ရည်ညွှန်းထားသော၊ သည် အထူးသဖြင့် ပလာစမာအခြောက်ရုပ်ထုကိရိယာ၏ မရှိမဖြစ်လိုအပ်သော အစိတ်အပိုင်းတစ်ခုဖြစ်သည်။ ခေတ်မီ ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ ထုတ်လုပ်ရေးတွင် နာနိုစကေး တိကျစွာ ထွင်းထုခြင်း လုပ်ငန်းစဉ်များကို ၎င်းမပါဘဲ ဆောင်ရွက်နိုင်မည်မဟုတ်ပေ။ foc......
ပိုပြီးဖတ်ပါ