CVD Coating Wafer Holder

Semicorex CVD CBRER Holder သည်စွမ်းဆောင်ရည်မြင့်မားသောစွမ်းဆောင်ရည်မြင့်မားသောစွမ်းဆောင်ရည်မြင့်မားသောအစိတ်အပိုင်းဖြစ်ပြီး Semiconductor ပစ္စည်းများကို အသုံးပြု. Semiconducy Prockes များအပေါ်ပံ့ပိုးပေးရန်ဒီဇိုင်းပြုလုပ်ရန်ဒီဇိုင်းပြုလုပ်ထားသည်။ ၎င်းသည် Tantalum carbide (TAC) နှင့်အတူပါ 0 င်သည်။

အဓိကအင်္ဂါရပ်များ:

Tantalum carbide အပေါ်ယံ: Tantalum carbide (TAC) ဖြင့်ဖုံးအုပ်ထားသည့်ကစားသမားကိုင်ဆောင်သူသည်၎င်း၏ခဲယဉ်းခြင်း, 0 တ်ဆင်ခြင်းနှင့်အပူတည်ငြိမ်မှုကြောင့်ဖြစ်သည်။ ဤအခင်းအကျင်းသည်ထုတ်ကုန်များ၏ကြမ်းတမ်းသောဓာတုဗေဒဆိုင်ရာပတ်ဝန်းကျင်နှင့်အပူချိန်မြင့်မားစွာခုခံတွန်းလှန်နိုင်ရန်အတွက်သိသာထင်ရှားသည်နှင့် Semiconductor Troachuring မှလိုအပ်သည်ကိုအတိအကျထမ်းဆောင်နိုင်သည့်စွမ်းရည်ကိုသိသိသာသာအထောက်အကူပြုသည်။

cupiticcritical coating နည်းပညာ - tac ၏ယူနီဖောင်းနှင့်သိပ်သည်းသောအလွှာကိုအာမခံသော supercritical အရည် comption method ကို အသုံးပြု. အပေါ်ယံပိုင်းကိုအသုံးပြုသည်။ Advanced Uating Technology သည်ပိုမိုကောင်းမွန်သောအသက်ရှည်မှုနှင့်အရည်အသွေးမြင့်မားသောရေရှည်နှင့်အတူမြင့်မားသောရေရှည်ဖုံးအုပ်ထားခြင်းကိုပိုမိုကောင်းမွန်သောကော်နှင့်လျှော့ချခြင်းနှင့်လျှော့ချရေးကိုလျှော့ချပေးသည်။

အဖုံးအထူ - TAC Coating သည်အထူ 120 အထိအထူရှိပြီးကြာရှည်ခံမှုနှင့်တိကျမှု၏အကောင်းဆုံးဟန်ချက်ညီမှုကိုထောက်ပံ့ပေးနိုင်သည်။ ဤအထူသည်၎င်း၏ဖွဲ့စည်းတည်ဆောက်ပုံဆိုင်ရာသမာဓိကိုအလျှော့မပေးဘဲအပူချိန်မြင့်မားသောအပူချိန်, ဖိအားများနှင့်ဓာတ်ပြုခြင်းပတ်ဝန်းကျင်ကိုခံနိုင်ရည်ရှိစေနိုင်သည်။

အလွန်ကောင်းမွန်သောအပူတည်ငြိမ်မှု - Tantalum carbide အပေါ်ယံပိုင်းသည်ထူးခြားသောအပူတည်ငြိမ်မှုကိုပြုလုပ်သည်။ ဤအင်္ဂါရပ်သည်တသမတ်တည်းရလဒ်များကိုထိန်းသိမ်းရန်နှင့် semiconductor ပစ္စည်းများ၏အရည်အသွေးကိုထိန်းသိမ်းရန်အတွက်အလွန်အရေးကြီးသည်။

Perforision နှင့် Wear Prevance: TAC Coating သည် corroser holder သည်ဓာတ်ငွေ့ကိုင်ဆောင်သူအား Semiconductor ဖြစ်စဉ်များတွင်တွေ့ရသည့်ဓာတ်ငွေ့ကိုင်ဆောင်သူများနှင့်ဓာတုပစ္စည်းများနှင့်ထိတွေ့မှုကိုခံနိုင်ရည်ရှိစေရန်အလွန်ခံနိုင်ရည်ရှိသည်။ ဤကြာရှည်ခံမှုသည်ထုတ်ကုန်၏ဘဝကိုတိုးချဲ့ပြီးမကြာခဏအစားထိုးရန်လိုအပ်ကြောင်းကိုလျော့နည်းစေသည်။

လျှောက်လွှာများ:

CVD အပေါ်ယံလွှာကိုင်ဆောင်သူသည်တိကျသောထိန်းချုပ်မှုနှင့်ပစ္စည်းသမာဓိရှိမှုမရှိမဖြစ်လိုအပ်သည့် Semiconductor Epitagaxy ဖြစ်စဉ်များအတွက်အထူးဒီဇိုင်းပြုလုပ်ထားသည်။ ၎င်းကိုမော်လီကျူးရောင်ခြည်ရောင်ခြည် (CVD), ဓာတုဗေဒဆိုင်ရာအငွေ့ (CVD),

Semiconductor Eargaxy တွင်အလွှာတစ်ခုတွင်အရည်အသွေးမြင့်ပါးလွှာသောရုပ်ရှင်များကြီးထွားလာရန်အတွက်တိကျမှုသည်အရေးပါသည်။ CVD COFFER Holder သည် 0 န်ဆောင်မှုများကိုအကောင်းဆုံးအခြေအနေများနှင့်ထိန်းသိမ်းထားနိုင်ပြီးအရည်အသွေးမြင့်သော semiconductor ပစ္စည်းများထုတ်လုပ်မှုကိုအထောက်အကူပြုသည်။

Semicorex CVD CBRER Holder သည် Semiconductor Earpitaxy ၏လိုအပ်ချက်များကိုဖြည့်ဆည်းရန်ဖြတ်တောက်ထားသောပစ္စည်းများနှင့်အဆင့်မြင့်သောအခြားသောနည်းပညာများကို အသုံးပြု. အင်ဂျင်နီယာကိုအင်ဂျင်နီယာကိုအသုံးပြုသည်။ ထူထပ်သောယူနီဖောင်း TAC အပေါ်ယံပိုင်းအတွက် supercritical fluition suptosition ကိုအသုံးပြုခြင်းသည်မပြည့်စုံသောကြာရှည်ခံမှု, ၎င်း၏သာလွန်ကောင်းမွန်သောအပူနှင့်ဓာတုပစ္စည်းခံနိုင်ရည်ဖြင့်ကျွန်ုပ်တို့၏ Wafer Holder သည်သင့်ရဲ့ Semiconductor ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်များ၏ထိရောက်မှုကိုတိုးတက်စေရန်အထောက်အကူပြုသောအခက်ခဲဆုံးပတ် 0 န်းကျင်တွင်ယုံကြည်စိတ်ချရသောစွမ်းဆောင်ရည်ကိုရရှိရန်ဒီဇိုင်းပြုလုပ်ထားသည်။