8 ။ EPI ကိုထောက်ခံသူ

Semicorex 8 လက်မ Epi Susceptor သည် Semiconductors ထုတ်လုပ်မှုအတွက် Estitaxial Suptosition Operation တွင်အသုံးပြုသောအဆင့်မြင့်နည်းပညာများပံ့ပိုးမှုအပိုင်းဖြစ်သည်။ ၎င်းကိုအထူတည်ငြိမ်သော CURBIDE (SIC) တွင်တပ်ဆင်ထားသောစင်ကြယ်သောဖိုက်ဆောင်ပစ္စည်းများနှင့်သက်ဆိုင်သောစင်ကြယ်သောဖိုက်ဆောင်ပစ္စည်းများကို အသုံးပြု. အပူတည်ငြိမ်မှု, ဓာတုရောဂါခံနိုင်ရည်ရှိခြင်းသည်အရေးကြီးသည်။ 8 လက်မအလေးသည် 200 မီလီမီတာလုပ်ကြံလွှင့်သူ 200 မီလီမီတာထုတ်လုပ်သည့်ပစ္စည်းကိရိယာများအတွက်စက်မှုလုပ်ငန်းဆိုင်ရာသတ်မှတ်ချက်များကိုစံသတ်မှတ်ထားသည်။  

Estitaxial တိုးတက်မှုနှုန်းသည်ထိန်းချုပ်ထားသောအပူပတ် 0 န်းကျင်နှင့်ပစ္စည်းအပြန်အလှန်ဆက်သွယ်မှုများလိုအပ်သည်။ နှစ် ဦး စလုံးသာဓက၌ sic coated သောဖြားသေဖန်များကိုအပြုသဘောလုပ်ဆောင်လိမ့်မည်။ Graphite Core သည်အလွန်မြင့်မားသောအပူစီးကူးခြင်းနှင့်အပူနိမ့်ကျမှုနည်းပါးသည်။ SIC ၏အပြင်ဘက်အလွှာသည် SUCKALOR ၏အပြင်ဘက် Shell ကိုဖြစ်သည်။ Sic Layer သည်ဟိုက်ဒရိုဂျင်၏အထူးသဖြင့်အပူ 0 တ်စားမှုကြောင့်အပူ 0 င်မှု၏ စုပေါင်း. စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ 0 တ်စုံမှုကြောင့်အပူပိုင်း 0 တ်စားမှု၏ဂုဏ်သိက္ခာရှိရှိအပူချိန်နှင့်စက်ပိုင်းဆိုင်ရာဖျက်ဆီးခြင်းဆိုင်ရာစက်ဆုပ်ရွံရှာဖွယ်ကောင်းသောအပူလွန်ကဲသောအပူလွန်ကဲသောအပူလွန်ကဲသောအပူလွန်ကဲခြင်းမှကာကွယ်ပေးသည်။ ယေဘူယျအားဖြင့်ဒီပစ္စည်းပဏ် cust ိသန်ဓေတည်ခြင်းတွင်လုံလောက်စွာထူထပ်နေသမျှကာလပတ်လုံးကျွန်ုပ်တို့ကအလုံအလောက်မြင့်မားနေသမျှကာလပတ်လုံးရေခဲသည်ကြာရှည်စွာအပူတပြင်းနှင့်ဓာတုဗေဒနည်းစနစ်နှစ်မျိုးလုံးကျန်ရှိနေသေးသည်။ နိဂုံးချုပ်အနေဖြင့်ကျွန်ုပ်တို့သည်သက်ဆိုင်ရာအပူရှိန်နယ်မြေများအတွင်းလည်ပတ်နေစဉ်ဤအချက်ကိုလက်တွေ့ကျကျလေ့လာတွေ့ရှိခဲ့ရပြီး Sic အလွှာသည်ထုတ်လုပ်မှုအရည်အသွေးကိုအမြင့်ဆုံးပြုလုပ်စဉ်ကုန်ပစ္စည်းများအရည်အသွေးမြင့်မားခြင်း,

semiconductor ကုန်ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်များတွင်ဖိုက်သောအစိတ်အပိုင်းများသည်မရှိမဖြစ်လိုအပ်သောနှင့်မယုံနိုင်လောက်အောင်အရေးကြီးသောအစိတ်အပိုင်းများရှိသည်။ Semicorex တွင်ကျွန်ုပ်တို့၏ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်အဆင့်တိုင်းတွင်တင်းကြပ်စွာထိန်းချုပ်မှုရှိကြသည်။ ကျွန်ုပ်တို့သည်အသုတ်မှသုတ်ထုတ်နိုင်သည့်ပစ္စည်းတံတဝင်ဖြစ်မှုနှင့်ကိုက်ညီမှုရှိနိုင်သည်။ ကျွန်ုပ်တို့၏အသုတ်ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်နှင့်အတူကျွန်ုပ်တို့တွင်ကုဗမီတာ 50 သာလျှင်ကုဗမီတာ 50 ရှိသော Carbonization Furnaces ငယ်များနှင့်အတူသေးငယ်သောကာဗွန်ဓာတ်ပစ္စည်းများရှိသည်။ ဖလေ့နေရာတစ်ခုစီသည်ကျွန်ုပ်တို့၏လုပ်ငန်းစဉ်တစ်လျှောက်လုံးတွင်တစ် ဦး ချင်းစီစောင့်ကြည့်လေ့လာမှု, မီးဖိုထဲတွင်အမှတ်အသားစုံအပူချိန်စောင့်ကြည့်လေ့လာခြင်းအပြင်ပစ္စည်းမျက်နှာပြင်တွင်အပူချိန်ကိုခြေရာခံကာထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်တစ်လျှောက်တွင်အပူချိန်သွေဖည်မှုကိုလျော့နည်းစေသည်။ အပူစီမံခန့်ခွဲမှုနှင့် ပတ်သက်. ကျွန်ုပ်တို့၏အာရုံစိုက်မှုကိုကျွန်ုပ်တို့အားအာရုံစိုက်ရန်ခွင့်ပြုသည်။

SIC အဖုံးကိုဓာတုအငွေ့အခိုးအငွေ့ (CVD) မှတစ်ဆင့်အသုံးပြုသည်။ ထို့ကြောင့်သန့်ရှင်းသော CVD လုပ်ငန်းစဉ်ကိုတိုးမြှင့်ထားသည်။ COUCT ရုပ်ရှင်အထူ၏ CVD ဖြစ်စဉ်ကိုထိန်းချုပ်မှုသည်တူညီမှုကိုပိုင်ဆိုင်သည်နှင့်အပူစက်ဘီးစီးခြင်းဖြင့်ပြားခြင်းနှင့်ရှုထောင့်များတည်ငြိမ်မှုအတွက်အရေးကြီးသည်။ ၎င်းသည်နောက်ဆုံးတွင်အလွန်ကောင်းမွန်သောပျော့ပျောင်းသောပကတိဖြစ်မှုကိုအဆုံးသတ်ပြီး Egitaxy Process တွင်အလွှာအပြင်းအထန်လုပ်ဆောင်မှုများကိုဖြစ်ပေါ်စေသည်။

ရှုထောင်တစ်ခုသည် Sememorex မှထုတ်လုပ်သော 8 လက်မ Epi Susceptor ၏အခြေခံကျသောအခြေခံအားသာချက်တစ်ခုဖြစ်သည်။ SCIPOR ကို SUCKALOR သည် WAFERS စက်ရုပ်များနှင့်အပူပေးသောစက်ရုပ်များနှင့်အတူကြီးမားသောသည်းမခံနိုင်သည့်တင်းကျပ်သောသည်းခံမှုအထိအင်ဂျင်နီယာဖြစ်သည်။ SUBLORE မျက်နှာပြင်ကိုသတ်သတ်မှတ်မှတ် epitaxial ဓာတ်ပေါင်းဖို၏အထူးသဖြင့်အပူနှင့်စီးဆင်းမှုအခြေအနေများအတွက်အထူးသဖြင့်အပူနှင့်စီးဆင်းမှုအခြေအနေများကိုပွတ်ဆွဲပြီးစိတ်ကြိုက်ပြုလုပ်သည်။ ရွေးချယ်စရာများဥပမာ, LIFT LIFT အပေါက်များ, အိတ်ဆောင်ပြန်လည်ထူထောင်ရေးသို့မဟုတ်ဆန့်ကျင်သောမျက်နှာပြင်များအားလုံးကို OEM Tool ဒီဇိုင်းများနှင့်လုပ်ငန်းစဉ်များနှင့်ကိုက်ညီနိုင်ပါသည်။

လက်ကိုင်တစ်ခုချင်းစီသည်ထုတ်လုပ်မှုကာလအတွင်းအပူစွမ်းဆောင်ရည်နှင့်စွမ်းဆောင်ရည်ဆိုင်ရာသမာဓိရှိမှုအတွက်စမ်းသပ်မှုများစွာကိုပြုလုပ်သည်။ Activitive ReadAxial နှင့်စွမ်းဆောင်ရည်များ၌ပင်စွမ်းဆောင်ရည်နှင့်စွမ်းဆောင်ရည်ကိုရရှိရန်အတွက်စွမ်းဆောင်ရည်နှင့်စွမ်းဆောင်ရည်ကိုရရှိရန်အတွက်စွမ်းဆောင်ရည်နှင့်စွမ်းဆောင်ရည်ကိုရရှိရန်အတွက်စိတ်အာရုံလျှော့ချရေးစစ်ဆေးမှုများအပါအ 0 င်အရည်အသွေးစစ်ဆေးခြင်းနည်းလမ်းများ, ရလဒ်မှာနောက်ဆုံးတွင်နောက်ဆုံးတွင် Semiconductor ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်း၏လက်ရှိတောင်းဆိုမှုများကိုပိုမိုကျော်လွန်ပြီးထက်ကျော်လွန်သောထုတ်ကုန်တစ်ခုဖြစ်သည်။

Semicorex 8 လက်မ Epi Susceptor ကိုစွမ်းအင်စီးကူးခြင်း, 8 လက်မအရွယ် SUCKAPOR သည်မြင့်မားသောအထွက်နှုန်းမြင့်မားခြင်း, စင်ကြယ်သော epitormity depalogial processings များကိုထုတ်လုပ်ခြင်းအတွက်မြင့်မားသောအသံချဲ့စက်တိုးတက်မှု Applications များအတွက်အဓိကအစိတ်အပိုင်းများအတွက်အဓိကအစိတ်အပိုင်းဖြစ်သည်။ EPI SUPIAL ၏ 8-လက်မအရွယ်အစားအရွယ်အစားကိုပုံမှန် 8 လက်မအရွယ်ပစ္စည်းကိရိယာများတွင်အများဆုံးတွေ့ရလေ့ရှိပြီးလက်ရှိဖောက်သည်ပစ္စည်းကိရိယာများနှင့်အပြန်အလှန်ဖလှယ်နိုင်သည်။ ၎င်း၏စံပြင်ဆင်မှုတွင် EPI Susceptor သည်အလွန်စိတ်ကြိုက်ပြုပြင်နိုင်သည်။