Wafer Carrier

· အထူးကောင်းမွန်သော အပူစီးကူးနိုင်မှု- ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ epitaxial ကြီးထွားမှုဖြစ်စဉ်များအတွင်း ထိရောက်သော အပူလွှဲပြောင်းမှုကို လွယ်ကူချောမွေ့စေပါသည်။

· အပူချိန်မြင့်သော ခံနိုင်ရည်- SiC coating သည် ပြင်းထန်သော အပူပတ်ဝန်းကျင်များကို ခံနိုင်ရည်ရှိပြီး ဓာတ်ပေါင်းဖိုရှိ အပူစက်ဝန်းတစ်လျှောက်လုံး သယ်ဆောင်သူသည် ၎င်း၏ စွမ်းဆောင်ရည်ကို ထိန်းသိမ်းထားကြောင်း သေချာစေပါသည်။

· Chemical corrosion resistance- SiC coating သည် epitaxy ကာလအတွင်း မကြာခဏကြုံတွေ့ရသော ဓာတ်ပြုဓာတ်ငွေ့များမှ သယ်ဆောင်သူ၏ ဓာတ်တိုးမှုနှင့် ချေးယူမှုကို သိသိသာသာ တိုးမြင့်စေသည်။

· Dimensional တည်ငြိမ်မှု- SiC နှင့် graphite ပေါင်းစပ်မှုသည် သယ်ဆောင်သူသည် ၎င်း၏ ပုံသဏ္ဍာန်နှင့် တိကျမှုကို အချိန်နှင့်အမျှ ထိန်းသိမ်းထားနိုင်ပြီး ရှည်လျားသော လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် ပုံပျက်ခြင်းအန္တရာယ်ကို လျော့နည်းစေပါသည်။

Semiconductor Epitaxy Growth တွင် အသုံးချမှုများ

Epitaxy သည် အလွှာပါးလွှာသော တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းအလွှာတစ်ခု၊ ပုံမှန်အားဖြင့် wafer အလွှာတစ်ခုပေါ်သို့ ပုံဆောင်ခဲဖြင့် ရာဇမတ်ကွက်များဖွဲ့စည်းတည်ဆောက်သည့် လုပ်ငန်းစဉ်တစ်ခုဖြစ်သည်။ ဤလုပ်ငန်းစဉ်အတွင်း၊ wafer နေရာချထားခြင်းတွင် အနည်းငယ်သွေဖည်သွားသည့်တိုင် တိကျသော wafer ကိုင်တွယ်မှုသည် အရေးကြီးပါသည်။

Wafer Carrier သည် ဤလုပ်ငန်းစဉ်အတွင်း semiconductor wafer များကို လုံခြုံစွာ ဆုပ်ကိုင်ထားပြီး ကောင်းမွန်မှန်ကန်စွာ နေရာချထားကြောင်း သေချာစေရေးတွင် အဓိကအခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်ပါသည်။ SiC-coated graphite ၏ပေါင်းစပ်မှုသည် ပါဝါအီလက်ထရွန်နစ်ပစ္စည်း၊ optoelectronics နှင့် အခြားအဆင့်မြင့်တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းအပလီကေးရှင်းများတွင်အသုံးပြုရန်အတွက် မြင့်မားသောသန့်ရှင်းစင်ကြယ်သော SiC crystals များပါ၀င်သည့် လုပ်ငန်းစဉ်တစ်ခုဖြစ်သည့် silicon carbide (SiC) epitaxy အတွက် လိုအပ်သောစွမ်းဆောင်ရည်လက္ခဏာများကို ပေးဆောင်ပါသည်။

အထူးသဖြင့် Wafer Carrier-

· တိကျသော wafer ချိန်ညှိမှုကို ပံ့ပိုးပေးသည်- စက်၏အထွက်နှုန်းနှင့် စွမ်းဆောင်ရည်အတွက် အရေးပါသော wafer တစ်လျှောက် epitaxial အလွှာကြီးထွားမှုတွင် တူညီမှုကိုသေချာစေသည်။

· အပူစက်ဝန်းများကို ခံနိုင်ရည်ရှိခြင်း- SiC-coated graphite သည် 2000°C အထိ အပူချိန်မြင့်သော ပတ်ဝန်းကျင်များတွင်ပင် တည်ငြိမ်ပြီး ယုံကြည်စိတ်ချရပြီး လုပ်ငန်းစဉ်တစ်လျှောက်လုံး တသမတ်တည်း wafer ကိုင်တွယ်မှုကို သေချာစေသည်။

· wafer ညစ်ညမ်းမှုကို လျှော့ချပေးသည်- သယ်ဆောင်သူ၏ သန့်ရှင်းသပ်ရပ်သော မြင့်မားသော ပစ္စည်းဖွဲ့စည်းမှုသည် epitaxial ကြီးထွားမှုဖြစ်စဉ်အတွင်း wafer သည် မလိုလားအပ်သော ညစ်ညမ်းမှုများနှင့် မထိတွေ့ကြောင်း သေချာစေသည်။

တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း epitaxy ဓာတ်ပေါင်းဖိုများတွင် Wafer Carrier ကို ဓာတ်ပေါင်းဖိုခန်းအတွင်း၌ ထားရှိထားပြီး ၎င်းသည် wafer အတွက် အထောက်အပံ့ပလပ်ဖောင်းတစ်ခုအဖြစ် လုပ်ဆောင်သည်။ သယ်ဆောင်သူသည် wafer ၏သမာဓိကိုမထိခိုက်စေဘဲ epitaxial ကြီးထွားမှုလုပ်ငန်းစဉ်တွင်အသုံးပြုသောမြင့်မားသောအပူချိန်များနှင့်ဓာတ်ပြုဓာတ်ငွေ့များနှင့်ထိတွေ့ရန်ခွင့်ပြုသည်။ SiC coating သည် ဓာတ်ငွေ့များနှင့် ဓာတုအပြန်အလှန်တုံ့ပြန်မှုကို တားဆီးပေးကာ အရည်အသွေးမြင့်၊ အပြစ်အနာအဆာကင်းသော ပစ္စည်းကြီးထွားမှုကို အာမခံသည်။

SiC Coated Graphite Wafer Carrier ၏ အားသာချက်များ

1. ပိုမိုကောင်းမွန်သောကြာရှည်ခံမှု- SiC coating သည် ဂရပ်ဖိုက်ပစ္စည်း၏ ခံနိုင်ရည်အားကို တိုးမြင့်စေပြီး အသုံးပြုမှုများစွာကြောင့် ပျက်စီးယိုယွင်းမှုအန္တရာယ်ကို လျှော့ချပေးသည်။

2. High-Temperature Stability- Wafer Carrier သည် epitaxial ကြီးထွားမှု မီးဖိုများတွင် ဖြစ်လေ့ဖြစ်ထရှိသော လွန်ကဲသော အပူချိန်ကို ခံနိုင်ရည်ရှိပြီး ကွဲထွက်ခြင်း သို့မဟုတ် ကွဲအက်ခြင်းမရှိဘဲ ၎င်း၏ဖွဲ့စည်းပုံဆိုင်ရာ ခိုင်မာမှုကို ထိန်းသိမ်းထားသည်။

3. မြှင့်တင်ထားသော အထွက်နှုန်းနှင့် လုပ်ငန်းစဉ် ထိရောက်မှု- wafer များကို လုံခြုံပြီး တသမတ်တည်း ကိုင်တွယ်ကြောင်း သေချာစေခြင်းဖြင့် SiC-coated graphite Wafer Carrier သည် epitaxial ကြီးထွားမှု လုပ်ငန်းစဉ်၏ အလုံးစုံ အထွက်နှုန်းနှင့် ထိရောက်မှုကို မြှင့်တင်ပေးပါသည်။

4. စိတ်ကြိုက်ရွေးချယ်စရာများ- တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းအပလီကေးရှင်းများစွာအတွက် လိုက်လျောညီထွေဖြစ်စေသော ကွဲပြားခြားနားသော epitaxial ဓာတ်ပေါင်းဖိုများ၏ သီးခြားလိုအပ်ချက်များကိုဖြည့်ဆည်းရန် အရွယ်အစားနှင့် ဖွဲ့စည်းမှုပုံစံအလိုက် ဝန်ဆောင်မှုပေးသူကို စိတ်ကြိုက်ပြင်ဆင်နိုင်သည်။

SemicorexSiC-coated ဂရပ်ဖိုက်Wafer Carrier သည် epitaxial ကြီးထွားမှုလုပ်ငန်းစဉ်အတွင်း wafer ကိုင်တွယ်ခြင်းအတွက် အကောင်းဆုံးဖြေရှင်းချက်ပေးစွမ်းသည့် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းစက်မှုလုပ်ငန်းတွင် အရေးကြီးသောအစိတ်အပိုင်းတစ်ခုဖြစ်သည်။ ၎င်း၏အပူတည်ငြိမ်မှု၊ ဓာတုခံနိုင်ရည်နှင့် စက်ပိုင်းဆိုင်ရာအား ပေါင်းစပ်မှုနှင့်အတူ၊ ၎င်းသည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ wafers များကို တိကျပြီး ယုံကြည်စိတ်ချရသော ကိုင်တွယ်မှုကို သေချာစေပြီး အရည်အသွေးပိုမြင့်သော ရလဒ်များနှင့် epitaxy လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် အထွက်နှုန်းကို မြှင့်တင်ပေးပါသည်။ ဆီလီကွန်ကာဗိုက် epitaxy သို့မဟုတ် အခြားအဆင့်မြင့်တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းအပလီကေးရှင်းများအတွက်ဖြစ်စေ ဤ Wafer Carrier သည် ခေတ်မီတစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်ခြင်း၏တိကျသောစံချိန်စံညွှန်းများနှင့်ကိုက်ညီရန်လိုအပ်သောကြာရှည်ခံမှုနှင့်စွမ်းဆောင်ရည်ကိုပေးဆောင်သည်။