စိုစွတ်ခြင်းအတွက် Quartz Tank

စိုစွတ်ခြင်းအတွက် Quartz Tank သည် semiconductor grade quartz မှ ဖန်တီးထားသော ဆာလဖျူရစ်အက်ဆစ် (H2SO4)၊ ဟိုက်ဒရိုဂျင်ပါအောက်ဆိုဒ် (H2O2) နှင့် စံသန့်ရှင်းသော ဖြေရှင်းနည်းများ (SC1) အပါအဝင် ဓာတုဗေဒပစ္စည်းအမျိုးမျိုးအတွက် ထူးခြားသောကြာရှည်ခံမှုနှင့် ဓာတ်ပြုမှုမရှိခြင်းကို ပေးဆောင်ပါသည်။

wafer fabrication တွင် Wet Processing အတွက် Quartz Tank ၏ အဓိကအသုံးပြုမှုတစ်ခုမှာ wafers များကို သန့်ရှင်းရေးလုပ်ခြင်းဖြစ်ပါသည်။ အမျိုးမျိုးသော ထုတ်လုပ်မှုအဆင့်များအတွင်း၊ တိကျသောအစိတ်အပိုင်းများကို ထွင်းထုရန် သို့မဟုတ် သတ်မှတ်ထားသောနေရာများသို့ ပျံ့နှံ့မှုကို ကန့်သတ်ရန် wafer များကို မျက်နှာဖုံးစွပ်ထားနိုင်သည်။ လုပ်ငန်းစဉ်အဆင့်တစ်ခုပြီးသည်နှင့် နောက်တစ်ဆင့်အတွက် wafer ကိုပြင်ဆင်ရန်အတွက် မျက်နှာဖုံးပစ္စည်းများကို သေချာစွာရှင်းလင်းရပါမည်။ စိုစွတ်သော ထုတ်ယူခြင်းအတွက် Quartz Tank သည် ဤသန့်ရှင်းရေးလုပ်ငန်းစဉ်တွင် အရေးပါသောအခန်းကဏ္ဍမှပါဝင်ပြီး နောက်ဆက်တွဲလုပ်ဆောင်မှုအဆင့်များကို ညစ်ညမ်းစေမည့် အကြွင်းအကျန်များ သို့မဟုတ် အမှုန်အမွှားများ မကျန်ရစ်စေဘဲ wafer များကို ထိထိရောက်ရောက် သန့်စင်ထားကြောင်း သေချာစေပါသည်။

ပြင်းထန်သော ဓာတုပစ္စည်းများကို တွန်းလှန်ရန် စိုစွတ်သော ထုတ်ယူခြင်းအတွက် တိုင်ကီ၏ Quartz စွမ်းရည်သည် စိုစွတ်သော ပြုပြင်ခြင်းဆိုင်ရာ အသုံးချမှုတွင် အရေးကြီးဆုံးဖြစ်သည်။ ဤကန်များသည် ခြစ်ခြင်းနှင့် သန့်ရှင်းရေးလုပ်ရာတွင် အသုံးပြုသည့် ပြင်းထန်သောဓာတုပစ္စည်းများကို ၎င်းတို့နှင့် မတုံ့ပြန်ဘဲ ခံနိုင်ရည်ရှိစေရန် ဒီဇိုင်းထုတ်ထားသည်။ ဤဓာတ်ပြုမှုမရှိသော ဓာတုပစ္စည်းများသည် ထိရောက်မှုရှိနေစေရန်နှင့် wafers များ၏ သမာဓိကို ထိခိုက်စေနိုင်သည့် မလိုလားအပ်သော ဓာတုတုံ့ပြန်မှုများ မဖြစ်ပေါ်ကြောင်း သေချာစေသည်။

wafer သန့်ရှင်းရေးလုပ်ငန်းစဉ်များတွင်၊ wafers ၏ညစ်ညမ်းမှုကိုလျှော့ချရန်မရှိမဖြစ်လိုအပ်သည်။ Semicorex Quartz Tank ကို Wet Processing အတွက် ညစ်ညမ်းမှုအန္တရာယ်ကို လျှော့ချရန် အင်ဂျင်နီယာချုပ်ဖြစ်ပြီး wafer များကို နှိုက်နှိုက်ချွတ်ချွတ်နှင့် ထိရောက်စွာ သန့်စင်ကြောင်း သေချာစေပါသည်။ ကျွန်ုပ်တို့၏ quartz tank များကို တိကျသောအပူချိန်ထိန်းချုပ်မှုနှင့် သန့်ရှင်းရေးဖြေရှင်းချက်များ၏ စဉ်ဆက်မပြတ်လည်ပတ်မှုကိုဖြစ်စေသော အပူပေးပြီး ပြန်လည်လည်ပတ်သည့်ပုံစံများဖြင့် ပံ့ပိုးပေးနိုင်ပါသည်။

Wet Processing အတွက် Semicorex Quartz Tank ၏ နောက်ထပ်အရေးကြီးသောအင်္ဂါရပ်မှာ အပူဒဏ်ခံနိုင်ရည်မြင့်မားသည်။ ဤကန်များသည် အပူချိန် 190 ဒီဂရီစင်တီဂရိတ်အထိ လည်ပတ်နိုင်ပြီး၊ သန့်ရှင်းရေး သို့မဟုတ် ခြစ်ထုတ်သည့် ဖြေရှင်းချက်များကို အပူပေးသည့် လုပ်ငန်းစဉ်များအတွက် သင့်လျော်သည်။ မြင့်မားသောအပူချိန်တွင်ပင် သိုလှောင်ကန်များသည် ၎င်းတို့၏ဖွဲ့စည်းပုံဆိုင်ရာ ကြံ့ခိုင်မှုနှင့် စွမ်းဆောင်ရည်ကို ထိန်းသိမ်းထားကြောင်း မြင့်မားသောအပူဒဏ်ခံနိုင်ရည်ရှိစေရန် အာမခံပါသည်။ ၎င်းသည် လိုချင်သောရလဒ်များရရှိရန်အတွက် အပူချိန်ထိန်းချုပ်ရန် အရေးကြီးသော လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် အထူးအရေးကြီးပါသည်။

Wet Processing အတွက် Quartz Tank သည် အပူပိုင်းချဲ့ထွင်မှု နည်းပါးပြီး အပူဒဏ်ကို ခံနိုင်ရည် မြင့်မားသည်။ အပူချိန်အတက်အကျကြောင့် ကွဲအက်ခြင်း သို့မဟုတ် ပုံပျက်ခြင်းဖြစ်နိုင်ခြေကို နည်းပါးစေပြီး သိုလှောင်ကန်များ၏ တာရှည်ခံမှုနှင့် ယုံကြည်စိတ်ချရမှုကို သေချာစေသည်။ အပူဒဏ်ခံနိုင်ရည်မြင့်မားမှု သည် quartz ကန်များကို ၎င်းတို့၏ဖွဲ့စည်းပုံဆိုင်ရာ ကြံ့ခိုင်မှုကို မထိခိုက်စေဘဲ လျင်မြန်သောအပူချိန်ပြောင်းလဲမှုများကို ခံနိုင်ရည်ရှိစေပါသည်။ ဤအပူဂုဏ်သတ္တိများသည် wafer ထုတ်လုပ်မှုတွင် စိုစွတ်သောလုပ်ဆောင်မှုအဆင့်များ၏ တိကျမှုနှင့် ယုံကြည်စိတ်ချရမှုကို ထိန်းသိမ်းထားရန်အတွက် မရှိမဖြစ်လိုအပ်ပါသည်။

မြင့်မားသော ပွင့်လင်းမြင်သာမှုသည် စိုစွတ်သော လုပ်ငန်းစဉ်အတွက် Semicorex Quartz Tank ၏ နောက်ထပ်အားသာချက်တစ်ခုဖြစ်သည်။ quartz ပစ္စည်း၏ ပွင့်လင်းမြင်သာမှုသည် wafers များကို အမြင်အာရုံစစ်ဆေးခြင်းနှင့် ပြုပြင်နေစဉ်အတွင်း သန့်ရှင်းရေး သို့မဟုတ် etching solutions များကို ခွင့်ပြုပေးပါသည်။ ဤမြင်နိုင်စွမ်းသည် လုပ်ငန်းစဉ်ထိန်းချုပ်မှုနှင့် စောင့်ကြည့်မှုကို တိုးမြှင့်စေပြီး မည်သည့်ပြဿနာများကိုမဆို ရှာဖွေတွေ့ရှိနိုင်ပြီး ချက်ခြင်းဖြေရှင်းနိုင်ကြောင်း သေချာစေပါသည်။ လုပ်ငန်းစဉ်ကို အမြင်အာရုံစောင့်ကြည့်နိုင်မှုသည် wafer သန့်ရှင်းရေးနှင့် etching အဆင့်များ၏ အရည်အသွေးနှင့် လိုက်လျောညီထွေရှိစေရန်အတွက် အထူးအရေးကြီးပါသည်။

Semicorex တွင် Wet Processing အတွက် အရည်အသွေးမြင့် Quartz Tank ကို ထုတ်လုပ်ရန် အဆင့်မြင့် စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ နည်းပညာကို အသုံးပြုထားပါသည်။ ကျွန်ုပ်တို့၏ ထုတ်လုပ်မှုစွမ်းရည်များတွင် အရွယ်အစားအထိ စိန်ဓါးနှင့် လေဆာဖြတ်တောက်ခြင်းများ ပါဝင်ပြီး တိကျသောအတိုင်းအတာနှင့် အရည်အသွေးမြင့်မားသော အပြီးသတ်မှုများကို အာမခံပါသည်။ အမှုန်အမွှားဖြစ်ပေါ်မှုနှင့် ညစ်ညမ်းမှုအန္တရာယ်ကို လျှော့ချရန် အလွန်ပြောင်မြောက်သော မျက်နှာပြင်များကိုလည်း အသုံးပြုပါသည်။ ကျွန်ုပ်တို့၏ အတွေ့အကြုံရှိ quartz ဂဟေဆော်သူများနှင့် စက်သမားများသည် ကျွန်ုပ်တို့၏ဖောက်သည်များ၏ သီးခြားလိုအပ်ချက်များကို ဖြည့်ဆည်းပေးရန်အတွက် ကျွန်ုပ်တို့၏ဖောက်သည်များ၏လိုအပ်ချက်များကိုဖြည့်ဆည်းပေးရန်အတွက် စိတ်ကြိုက်ပြုလုပ်ထားသော စွမ်းအားမြင့်ဂဟေဆော်ထားသော inlets များနှင့် probe ကိုင်ဆောင်သူများဖြင့် သန့်စင်သောမြင့်မားသော quartz tank များကို ဖန်တီးပါသည်။

Wet Processing အတွက် Quartz Tank ၏ စွမ်းဆောင်ရည်နှင့် တာရှည်ခံမှုကို မြှင့်တင်ရန်၊ အပူဖိစီးမှုကို သက်သာစေရန် ၎င်းတို့ကို ချန်လှပ်ထားသည်။ Annealing သည် quartz ပစ္စည်းများအတွင်း အတွင်းပိုင်းဖိစီးမှုများကို လျှော့ချပေးသည့် အပူကုသမှု လုပ်ငန်းစဉ်တစ်ခုဖြစ်ပြီး ၎င်း၏ အပူဒဏ်ကို ခံနိုင်ရည်ရှိကာ အလုံးစုံ တာရှည်ခံမှုကို တိုးမြှင့်ပေးသည်။

ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ ထုတ်လုပ်မှု လုပ်ငန်းစဉ်များ ၏ ကွဲပြားသော လိုအပ်ချက်များနှင့် ကိုက်ညီရန် စိတ်ကြိုက် အရွယ်အစား နှင့် ဖွဲ့စည်းမှု များသည် မရှိမဖြစ် လိုအပ်ပါသည်။ Semicorex တွင်၊ ကျွန်ုပ်တို့သည် ကျွန်ုပ်တို့၏ဖောက်သည်များ၏ သီးခြားလိုအပ်ချက်များနှင့် အံဝင်ခွင်ကျရှိသော ဖြေရှင်းချက်များကို ပေးစွမ်းနိုင်စေမည့် ကျွန်ုပ်တို့၏ quartz tanks အတွက် စိတ်ကြိုက်အရွယ်အစားနှင့် ဖွဲ့စည်းမှုပုံစံများစွာကို ပေးဆောင်ထားပါသည်။ ၎င်းသည် အားကောင်းသော ဂဟေဆော်ထားသော quartz အပေါက်များ၊ ပစ္စတင်ကိုင်ဆောင်သူများ သို့မဟုတ် အခြားစိတ်ကြိုက်အင်္ဂါရပ်များကို ပေါင်းထည့်သည်ဖြစ်စေ ၎င်းတို့၏တိကျသောသတ်မှတ်ချက်များနှင့်ပြည့်မီသော quartz tank များကို ပေးပို့ရန်အတွက် ကျွန်ုပ်တို့၏ဖောက်သည်များနှင့် အနီးကပ်လုပ်ဆောင်ပါသည်။