ထုတ်ကုန်များ

Semicorex သည် တရုတ်နိုင်ငံရှိ ပရော်ဖက်ရှင်နယ် ထုတ်လုပ်သူနှင့် ပေးသွင်းသူဖြစ်သည်။ ကျွန်ုပ်တို့၏စက်ရုံသည် barrel susceptor၊ mocvd susceptor၊ wafer boat စသည်တို့ကို ပံ့ပိုးပေးပါသည်။ လွန်ကဲသောဒီဇိုင်း၊ အရည်အသွေးကုန်ကြမ်းများ၊ စွမ်းဆောင်ရည်မြင့်မားပြီး ယှဉ်ပြိုင်နိုင်သောစျေးနှုန်းများသည် သုံးစွဲသူတိုင်းလိုချင်သည့်အရာဖြစ်ပြီး ၎င်းသည်လည်း သင့်အား ပေးဆောင်နိုင်ပါသည်။ ကျွန်ုပ်တို့သည် အရည်အသွေးမြင့်၊ ကျိုးကြောင်းဆီလျော်သောစျေးနှုန်းနှင့် ပြီးပြည့်စုံသောဝန်ဆောင်မှုကို ရယူပါသည်။

View as

ICP Etching Wafer Holder

Semicorex ၏ ICP etching wafer ကိုင်ဆောင်ခြင်းသည် epitaxy နှင့် MOCVD ကဲ့သို့သော အပူချိန်မြင့်သော wafer ကိုင်တွယ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်များအတွက် ပြီးပြည့်စုံသောဖြေရှင်းချက်ဖြစ်သည်။ တည်ငြိမ်ပြီး အပူချိန် 1600 ဒီဂရီစင်တီဂရိတ်အထိ ရှိသော ဓာတ်တိုးဆန့်ကျင်မှုကို ခံနိုင်ရည်ရှိသောကြောင့် ကျွန်ုပ်တို့၏ ဝန်ဆောင်မှုပေးသူများသည် အပူပရိုဖိုင်းများ၊ laminar ဓာတ်ငွေ့စီးဆင်းမှုပုံစံများကိုပင် သေချာစေပြီး ညစ်ညမ်းခြင်း သို့မဟုတ် အညစ်အကြေးများ ပျံ့နှံ့ခြင်းမှ ကာကွယ်ပေးပါသည်။

ပိုပြီးဖတ်ပါ စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

ICP Etching Carrier Plate

Semicorex ၏ ICP Etching Carrier Plate သည် wafer ကိုင်တွယ်ခြင်းနှင့် ပါးလွှာသော ဖလင်ထုတ်ယူခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်များကို တောင်းဆိုရန်အတွက် အကောင်းဆုံးဖြေရှင်းချက်ဖြစ်သည်။ ကျွန်ုပ်တို့၏ထုတ်ကုန်သည် သာလွန်ကောင်းမွန်သော အပူနှင့် သံချေးတက်မှုကို ခံနိုင်ရည်ရှိပြီး အပူတူညီမှု နှင့် laminar ဓာတ်ငွေ့စီးဆင်းမှုပုံစံများကိုပင် ပံ့ပိုးပေးပါသည်။ သန့်ရှင်းပြီး ချောမွေ့သော မျက်နှာပြင်ဖြင့်၊ ကျွန်ုပ်တို့၏ ကယ်ရီယာသည် သန့်ရှင်းသော wafer များကို ကိုင်တွယ်ရန်အတွက် ပြီးပြည့်စုံပါသည်။

ပိုပြီးဖတ်ပါ စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

ICP Etching လုပ်ငန်းစဉ်အတွက် Wafer Holder

ICP Etching Process အတွက် Semicorex ၏ Wafer Holder သည် wafer ကိုင်တွယ်ခြင်းနှင့် ပါးလွှာသော ဖလင်ထုတ်ယူခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်များကို တောင်းဆိုရန်အတွက် ပြီးပြည့်စုံသော ရွေးချယ်မှုဖြစ်သည်။ ကျွန်ုပ်တို့၏ထုတ်ကုန်သည် သာလွန်ကောင်းမွန်သောအပူနှင့်ချေးခံနိုင်ရည်၊ အပူတူညီမှုပင်၊ နှင့် တသမတ်တည်းယုံကြည်စိတ်ချရသောရလဒ်များအတွက် အကောင်းဆုံးသော laminar ဓာတ်ငွေ့စီးဆင်းမှုပုံစံများရှိသည်။

ပိုပြီးဖတ်ပါ စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

ICP Silicon Carbon Coated Graphite

Semicorex ၏ ICP Silicon Carbon Coated Graphite သည် wafer ကိုင်တွယ်ခြင်းနှင့် ပါးလွှာသော ဖလင်စုဆောင်းခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်များကို တောင်းဆိုရန်အတွက် အကောင်းဆုံးရွေးချယ်မှုဖြစ်သည်။ ကျွန်ုပ်တို့၏ထုတ်ကုန်သည် သာလွန်ကောင်းမွန်သောအပူနှင့် ချေးခံနိုင်ရည်၊ အပူတူညီမှုပင်၊ နှင့် အကောင်းဆုံးသော laminar ဓာတ်ငွေ့စီးဆင်းမှုပုံစံများရှိသည်။

ပိုပြီးဖတ်ပါ စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

PSS လုပ်ငန်းစဉ်အတွက် ICP Plasma Etching စနစ်

အရည်အသွေးမြင့် epitaxy နှင့် MOCVD လုပ်ငန်းစဉ်များအတွက် PSS လုပ်ငန်းစဉ်အတွက် Semicorex ၏ ICP Plasma Etching System ကိုရွေးချယ်ပါ။ ကျွန်ုပ်တို့၏ထုတ်ကုန်သည် သာလွန်ကောင်းမွန်သော အပူနှင့် ချေးခံနိုင်ရည်ကို ပေးစွမ်းသည့် ဤလုပ်ငန်းစဉ်များအတွက် အထူးပြုလုပ်ထားပါသည်။ သန့်ရှင်းပြီး ချောမွေ့သော မျက်နှာပြင်ဖြင့်၊ ကျွန်ုပ်တို့၏ ကယ်ရီယာသည် သန့်ရှင်းသော wafer များကို ကိုင်တွယ်ရန်အတွက် ပြီးပြည့်စုံပါသည်။

ပိုပြီးဖတ်ပါ စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

ICP Plasma Etching Plate

Semicorex ၏ ICP Plasma Etching Plate သည် wafer ကိုင်တွယ်ခြင်းနှင့် ပါးလွှာသော ဖလင်စုဆောင်းခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်များအတွက် သာလွန်ကောင်းမွန်သော အပူနှင့်ချေးခံနိုင်ရည်ကို ပေးစွမ်းသည်။ ကျွန်ုပ်တို့၏ထုတ်ကုန်သည် မြင့်မားသောအပူချိန်နှင့် ပြင်းထန်သော ဓာတုသန့်စင်မှုကို ခံနိုင်ရည်ရှိပြီး ကြာရှည်ခံကြောင်းအာမခံပါသည်။ သန့်ရှင်းပြီး ချောမွေ့သော မျက်နှာပြင်ဖြင့်၊ ကျွန်ုပ်တို့၏ ကယ်ရီယာသည် သန့်ရှင်းသော wafer များကို ကိုင်တွယ်ရန်အတွက် ပြီးပြည့်စုံပါသည်။

ပိုပြီးဖတ်ပါ စုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။

<...100 101 102 103 104...108 >