ပျံ့ပြွန်များ

Semicorex Silicon Carbide Diffusion Tubes များသည် semiconductor diffusion စနစ်များအတွင်း အဓိက တုံ့ပြန်မှုအခန်းအဖြစ် ဆောင်ရွက်နိုင်ရန် ဒီဇိုင်းထုတ်ထားသော အထူးအင်ဂျင်နီယာ အခေါင်းပေါက် အစိတ်အပိုင်းများဖြစ်သည်။ တစ်မူထူးခြားသော ရှည်လျားပြီး သွယ်လျသော ဂျီသြမေတြီတစ်ခုပါရှိသော ဤပြွန်များကို အပူပေးခြင်းအတွက် တည်ငြိမ်ပြီး သန့်ရှင်းစင်ကြယ်သော ပတ်ဝန်းကျင်ကို ဖန်တီးရန်အတွက် ဤပြွန်များကို မီးဖိုအတွင်းရှိ အပူပေးဒြပ်စင်များထဲသို့ တိုက်ရိုက်ထည့်သွင်းထားသည်။ ၎င်းတို့၏အဆင့်မြင့်ဒီဇိုင်းသည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာထုတ်လုပ်ခြင်းတွင် တူညီပြီး ထပ်တလဲလဲရနိုင်သောရလဒ်များရရှိရန်အတွက် မရှိမဖြစ်လိုအပ်သော အပူချိန်၊ ဓာတ်ငွေ့စီးဆင်းမှုနှင့် လုပ်ငန်းစဉ်အခြေအနေများကို တိကျစွာထိန်းချုပ်နိုင်စေပါသည်။

Diffusion စနစ်များတွင် လုပ်ဆောင်ချက်များ

ပျံ့နှံ့ခြင်းနှင့် အပူပေးခြင်းဆိုင်ရာ စက်ပစ္စည်းများတွင်၊ ပျံ့နှံ့မှုပြွန်သည် တုံ့ပြန်မှုပတ်ဝန်းကျင်ကို သတ်မှတ်ရာတွင် အဓိကအခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်ပါသည်။ အပူပေးဇုံအတွင်း တည်ရှိသော ပြွန်သည် မြင့်မားသောအပူချိန်နှင့် ဓာတ်ပြုဓာတ်ငွေ့များနှင့် ထိတွေ့သည့် wafers များကို ထိန်းချုပ်သည့်အခန်းအဖြစ် လုပ်ဆောင်သည်။

Silicon Carbide Diffusion Tube သည် အာမခံသည်-

တုံ့ပြန်မှုဇုန်အတွင်း တည်ငြိမ်ပြီး တူညီသော အပူစက်ကွင်းတစ်ခု

တသမတ်တည်း ပျံ့နှံ့မှု သို့မဟုတ် စုဆောင်းခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်များအတွက် ထိန်းချုပ်ထားသော ဓာတ်ငွေ့ဖြန့်ဖြူးမှု

လုပ်ငန်းစဉ်ပတ်ဝန်းကျင်၏ ပြင်ပညစ်ညမ်းမှုမှ သီးခြားခွဲထုတ်ခြင်း။

ထပ်ခါတလဲလဲ အပူချိန်မြင့်သော စက်ဝန်းများအတွင်း ယုံကြည်စိတ်ချရသော စွမ်းဆောင်ရည်

၎င်း၏ဖွဲ့စည်းတည်ဆောက်ပုံဆိုင်ရာ ခိုင်မာမှုနှင့် ပစ္စည်းသန့်စင်မှုတို့သည် လုပ်ငန်းစဉ် ညီညွတ်မှုကို ထိန်းသိမ်းရန်နှင့် စက်ပစ္စည်းအထွက်နှုန်းမြင့်မားစေရန်အတွက် အရေးကြီးပါသည်။

ရွေးချယ်နိုင်သော CVD (Chemical Vapor Deposition) အပေါ်ယံအလွှာများကို မျက်နှာပြင် သန့်စင်မှု၊ ဝတ်ဆင်မှု ခံနိုင်ရည်ရှိမှုနှင့် ဓာတုကြာရှည်ခံမှုတို့ကို ပိုမိုတိုးတက်ကောင်းမွန်စေရန်အတွက် ဖန်ပြွန်အား အပြင်းထန်ဆုံး လုပ်ငန်းစဉ်လိုအပ်ချက်များအတွက် သင့်လျော်စေသည်။

3D Printing ဖြင့် အဆင့်မြင့်ထုတ်လုပ်ခြင်း။

Semicorex သည် တိကျပြီး ရှုပ်ထွေးသော ဂျီသြမေတြီများဖြင့် ပျံ့နှံ့နေသော ပြွန်များကို ထုတ်လုပ်ရန် အဆင့်မြင့် 3D ပုံနှိပ်စက်နည်းပညာကို အသုံးပြုထားသည်။ ဤကုန်ထုတ်နည်းလမ်းသည် အောက်ပါတို့ကို လုပ်ဆောင်နိုင်သည်-

ပြွန်အရွယ်အစားနှင့် နံရံအထူကို တိကျစွာထိန်းချုပ်ပါ။

သီးသန့်စနစ်များဖြင့် စိတ်ကြိုက်အတွင်းပိုင်းနှင့် ပြင်ပပုံစံများ

ထုတ်လုပ်မှုအပိုင်းများတွင် တသမတ်တည်း အရည်အသွေးနှင့် ထပ်တလဲလဲလုပ်ဆောင်နိုင်မှု

စံချိန်စံညွှန်းနှင့် စိတ်ကြိုက်ဒီဇိုင်းနှစ်မျိုးစလုံးကို ထိရောက်စွာ ထုတ်လုပ်မှု

တင်းတင်းကျပ်ကျပ်သည်းခံနိုင်မှုရရှိရန် စွမ်းရည်သည် မီးဖိုစနစ်များနှင့် တိကျသော လုပ်ငန်းစဉ်ထိန်းချုပ်မှုတို့နှင့် အကောင်းဆုံး လိုက်ဖက်မှုရှိစေကြောင်း သေချာစေသည်။

လျှောက်လွှာအခြေခံရွေးချယ်ရေးလမ်းညွှန်

ရွေးပါ။Quartz Diffusion Tubesအကယ်၍-

လည်ပတ်မှုအပူချိန်သည် အလယ်အလတ် (<1200°C) ဖြစ်သည်

ကုန်ကျစရိတ် sensitivity သည် အဓိက စိုးရိမ်စရာဖြစ်သည်။

လုပ်ငန်းစဉ်များသည် ကောင်းမွန်စွာဖွဲ့စည်းထားပြီး တောင်းဆိုမှုနည်းပါးသည်။

အကယ်၍ SiC Diffusion Tubes ကိုရွေးချယ်ပါ-

အပူချိန်မြင့်မားသော လုပ်ငန်းစဉ်များ လိုအပ်သည် (> 1200°C)

အပူ၏တူညီမှုနှင့် အထွက်နှုန်းသည် အရေးကြီးပါသည်။

တာရှည်ခံခြင်းနှင့် ပြုပြင်ထိန်းသိမ်းမှု လျှော့ချခြင်းတို့ကို ဦးစားပေးလုပ်ဆောင်ပါသည်။

အဆင့်မြင့် semiconductor၊ SiC wafer သို့မဟုတ် CVD စနစ်များတွင် အသုံးပြုသည်။

Semicorex Silicon Carbide Diffusion Tubes သည် semiconductor thermal processing စနစ်များအတွက် စွမ်းဆောင်ရည်မြင့် ဖြေရှင်းချက် ပေးပါသည်။ ၎င်းတို့၏ အထူးပြု အခေါင်းပေါက်ဒီဇိုင်း၊ အလွန်မြင့်မားသော သန့်ရှင်းစင်ကြယ်သော SiC ပစ္စည်း၊ ရွေးချယ်နိုင်သော CVD အပေါ်ယံပိုင်းများနှင့် အဆင့်မြင့် 3D ထုတ်လုပ်မှုစွမ်းရည်များဖြင့် ၎င်းတို့သည် တိကျသော ထိန်းချုပ်မှု၊ ယုံကြည်စိတ်ချရမှုနှင့် တာရှည်ခံမှုကို ပေးစွမ်းသည်။ ဤပြွန်များသည် တည်ငြိမ်သောတုံ့ပြန်မှုပတ်ဝန်းကျင်ကို ထိန်းသိမ်းရန်နှင့် အရည်အသွေးမြင့် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာထုတ်လုပ်မှုကိုသေချာစေရန်အတွက် အရေးကြီးသောအစိတ်အပိုင်းတစ်ခုဖြစ်သည်။