တရုတ် အထူးဂရပ်ဖစ် ထုတ်လုပ်သူများ၊ တင်သွင်းသူများ၊ စက်ရုံ

အထူးစီနယ် 0 န်အခနျးမှုသည်လုပ်ငန်းများ၌ပြုလုပ်သောအတုဖောင်းပွမှုတစ်ခုဖြစ်သည်။ ဒါဟာ Semiconductor နှင့် Photovoltaic ထုတ်လုပ်ခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်များတွင် Crystal ကြီးထွားမှု, အိုင်းထပ်ဆောင်း implantation,

1 ။ Silicon Carbide (SIC) Crystal ကြီးထွားမှု

Silicon SemiconDuctor ပစ္စည်းအဖြစ်ဆီလီကွန်ကာလက်သည်စွမ်းအင်အသစ်များ, 5G ဆက်သွယ်ရေးနှင့်အခြားနယ်ပယ်များတွင်ကျယ်ပြန့်စွာအသုံးပြုသည်။ 6 လက်မနှင့် 8 လက်မအရွယ် SIC Crystal ကြီးထွားမှုဖြစ်စဉ်တွင် isostatic chrofite ကိုအဓိကအားဖြင့်အောက်ပါသော့ချက်အစိတ်အပိုင်းများကိုထုတ်လုပ်ရန်အဓိကအသုံးပြုသည်။

Crucible: ဒီကိစ်စကို SIC အမှုန့် feedstock ကို setthesize လုပ်ပြီးမြင့်မားသောအပူချိန်မှာကြည်လင်တိုးတက်မှုနှုန်းကိုကူညီနိုင်အောင်အသုံးပြုနိုင်သည်။ ၎င်း၏မြင့်မားသောသန့်ရှင်းစင်ကြယ်ခြင်း, အပူချိန်မြင့်မားမှုနှင့်အပူချိန်မြင့်မားမှုနှင့်အပူရှိန်ခုခံမှုခံနိုင်ရည်သည်တည်ငြိမ်သောကြည်လင်တိုးတက်မှုနှုန်းကိုသေချာစေသည်။

Graphite အပူပေးစက် - ၎င်းသည်ပုံမှန်အရည်အသွေးမြင့်မားသောကြီးထွားမှုတိုးတက်မှုကိုသေချာစေသည်။

insulator tube: ဤသည်သည် Crystal ကြီးထွားလာသည့်မီးဖိုအတွင်းရှိအပူချိန်တစ်မျိုးလုံးကိုထိန်းသိမ်းထားပြီးအပူဆုံးရှုံးမှုကိုလျော့နည်းစေသည်။

2 ။ ion implantation

Ion implantation သည် Semiconductor Troachuring တွင်အဓိကဖြစ်စဉ်တစ်ခုဖြစ်သည်။ ISostatic Cappite ကိုအဓိကအားဖြင့်အိုင်းယွန်း implanters များတွင်အောက်ပါအစိတ်အပိုင်းများကိုထုတ်လုပ်ရန်အဓိကအသုံးပြုသည်။

Graphite Getter: ဤသည်အိုင်းယွန်ရောင်ခြည်၌ညစ်ညူးသောအိုင်းယွန်းများကိုစုပ်ယူသည်။

ဖိုက်ပုံကိုအာရုံစူးစိုက်မှုမြည်ခြင်း - ၎င်းသည်အိုင်းယွန်းလောင်းကြေးကိုပိုမိုကောင်းမွန်သော ion implants ၏တိကျမှန်ကန်မှုနှင့်ထိရောက်မှုကိုပိုမိုကောင်းမွန်သောအာရုံစိုက်သည်။ Graphite Substrate Trays: ဆီလီကွန်ကယောင်္ဇာများကိုထောက်ပံ့ရန်နှင့်အိုင်းယွန်းထည့်သွင်းမှုကာလအတွင်းတည်ငြိမ်မှုနှင့်ရှေ့နောက်ညီညွတ်မှုကိုထိန်းသိမ်းထားသည်။

3 ။ EstagAxAN လုပ်ငန်းစဉ်

Estitaxy လုပ်ငန်းစဉ်သည် Semiconductor Device ထုတ်လုပ်မှုတွင်အရေးပါသောခြေလှမ်းတစ်ခုဖြစ်သည်။ isostatic အရ နှိပ်. ရိုက်ကူးသည့်ဖိုက်ဖရက်သည်အဓိကအားဖြင့်အောက်ပါအစိတ်အပိုင်းများကို epitaxy forments များတွင်ထုတ်လုပ်ရန်အဓိကအသုံးပြုသည်။

Graphite trays နှင့် sureceptors: Silicon Wafers များကို Silicon Wafers များကိုထောက်ပံ့ရန်,

4 ။ အခြား semiconductor ထုတ်လုပ်မှုလျှောက်လွှာများ

isostatic အရ နှိပ်. ရိုက်ကူးသည့်ဖောင်းပွမှုကိုအောက်ပါ semiconductor ထုတ်လုပ်မှုလျှောက်လွှာများတွင်ကျယ်ပြန့်စွာအသုံးပြုသည်။

acting လုပ်ငန်းစဉ် - ပေါင်းစပ်သူများအတွက်ဂရော့ခ်လျှပ်ကူးပစ္စည်းများနှင့်အကာအကွယ်ပစ္စည်းများကိုထုတ်လုပ်ရန်အသုံးပြုသည်။ ၎င်း၏ချေးခုခံမှုနှင့်မြင့်မားသောသန့်ရှင်းမှုသည်စွဲမြဲစွာတည်ငြိမ်မှုနှင့်တိကျမှန်ကန်မှုကိုသေချာစေသည်။

ဓာတုအငွေ့အခိုးအငွေ့ (CVD) - CVD မီးဖိုများအတွင်းရှိဂေါက်သီးဗူးများနှင့်အပူပေးစက်များထုတ်လုပ်ရန်အသုံးပြုသည်။ ၎င်း၏မြင့်မားသောအပူစီးကူးခြင်းနှင့်အပူချိန်မြင့်မားမှုကိုခံနိုင်ရည်သည်ယူနီဖောင်းပါးလွှာသောရုပ်ရှင်အယူအဆများကိုသေချာစေသည်။

ထုပ်ပိုးစမ်းသပ်ခြင်း - စမ်းသပ်မှုလ်တာများနှင့်သယ်ယူပို့ဆောင်ရေးလမ်းကြောင်းများကိုထုတ်လုပ်ရန်အသုံးပြုသည်။ ၎င်း၏မြင့်မားသောတိကျမှုနှင့်ညစ်ညမ်းမှုနိမ့်သည်တိကျသောစစ်ဆေးမှုရလဒ်များကိုသေချာစေသည်။

ဖိုက်အစိတ်အပိုင်းများ၏အားသာချက်များ

မြင့်မားသောသန့်ရှင်းစင်ကြယ်:

အလွန်နိမ့်သောအညစ်အကြေးများနှင့်အတူသန့်ရှင်းစင်ကြယ်သောပုန်းအောင်းအုံးပစ္စည်းများကို အသုံးပြု. semiconductor ကုန်ထုတ်လုပ်မှု၏တင်းကြပ်သောရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာသန့်ရှင်းစင်ကြယ်ခြင်းဆိုင်ရာလိုအပ်ချက်များကိုဖြည့်ဆည်းပေးသည်။ ကုမ္ပဏီ၏ကိုယ်ပိုင်သန့်စင်ခြင်းမီးဖိုသည်ဂရပ်ဖစ်ကို 5ppm အောက်တွင်ဖော်ပြနိုင်သည်။

မြင့်မားသောတိကျစွာ:

အဆင့်မြင့်ပြုပြင်ပြောင်းလဲရေးကိရိယာများနှင့်ရင့်ကျက်သောပြုပြင်ထုတ်လုပ်သည့်နည်းပညာဖြင့်ထုတ်ကုန်၏ရှုထောင့်တိကျမှုနှင့်ပုံစံနှင့်အနေအထားနှင့်ရာထူးနှင့်ရာထူးနှင့်အနေအထားနှင့်ရာထူးနှင့်ရာထူးနှင့်အနေအထားနှင့်အနေအထားသည်းခံမှုသည် Micron level ကိုရောက်ရှိရန်သေချာစေသည်။

စွမ်းဆောင်ရည်မြင့်:

ထုတ်ကုန်တွင်အလွန်မြင့်မားသောအပူချိန်ခုခံခြင်း, ချေးခြင်းခံနိုင်ရည်, ရောင်ခြည်ခုခံခြင်း, အပူချိန်မြင့်မားခြင်း,

စိတ်ကြိုက်ဝန်ဆောင်မှု:

စိတ်ကြိုက်ပြင်ဆင်ထားသောထုတ်ကုန်ဒီဇိုင်းနှင့်ပြုပြင်ခြင်း 0 န်ဆောင်မှုများကိုဖောက်သည်များအရကွဲပြားခြားနားသော application scersion ၏လိုအပ်ချက်များကိုဖြည့်ဆည်းရန်လိုအပ်သည်။

ဖိုက်ထုတ်ကုန်အမျိုးအစားများ

(1) isostatic ဖျံ
Isostatic Captite ထုတ်ကုန်များကိုအအေးမိခြင်းဖြင့်ထုတ်လုပ်သည်။ အခြားဖွဲ့စည်းခြင်းနည်းလမ်းများနှင့်နှိုင်းယှဉ်လျှင်ဤလုပ်ငန်းစဉ်မှထုတ်လုပ်သောပုကင်းသမားများသည်အလွန်ကောင်းမွန်သောတည်ငြိမ်မှုရှိသည်။ Sic Sice Crystals အတွက်လိုအပ်သော sic singstals များအတွက်လိုအပ်သောဂစ်ဖ္ချောင်းများသည်အရွယ်အစားကြီးမားသည့်ထုတ်ကုန်များဖြစ်ပြီးအသုံးပြုမှုလိုအပ်ချက်များနှင့်မကိုက်ညီသောဖိုက်ထုတ်ကုန်များ၏အတွင်းပိုင်းနှင့်မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင်မညီမညာဖြစ်နေသောသန့်ရှင်းစင်ကြယ်မှုများကိုဖြစ်ပေါ်စေလိမ့်မည်။ Sic Sicy Crystals အတွက်လိုအပ်သောကြီးမားသောအရွယ်အစားရှိသောဖိုက်ဓာတ်ပုံများအတွက်နက်ရှိုင်းသောသန့်စင်ထုတ်ကုန်များ၏နက်ရှိုင်းသောသန့်စင်ထုတ်ကုန်များ၏လိုအပ်ချက်များကိုဖြည့်ဆည်းနိုင်ရန်အတွက်ကြီးမားသောအပူချိန်မြင့်မားသောအပူချိန်မြင့်မားသော Pulse Purfication Purment ကို အသုံးပြု. ကြီးမားသောအပူချိန်မြင့်မားသောပုံသဏ် paint ာရေးနှင့်အထူးသဖြင့်သန့်ရှင်းစင်ကြယ်မှုသည်အသုံးပြုမှုလိုအပ်ချက်များကိုဖြည့်ဆည်းပေးနိုင်ရန်အတွက်ထူးခြားသည့်အပူချိန်မြင့်မားသောအပူချိန်မြင့်မားသောသွေးခုန်ချမှုလုပ်ငန်းစဉ်ကိုမွေးစားသင့်သည်။

(2) porous ဖိုက်
porous ဖိုက်အကြီးနှင့်သိပ်သည်းဆအနိမ့်နှင့်အတူဖိုက်အမျိုးအစားတစ်ခုဖြစ်ပါတယ်။ SIC Crystal ကြီးထွားမှုဖြစ်စဉ်တွင်ပုန်ကန်မှုသည်အစုလိုက်အပြုံလိုက်လွှဲပြောင်းမှုပုံစံမျိုးကိုတိုးတက်စေရန်သိသာထင်ရှားသောအခန်းကဏ် plays မှပါ 0 င်သည်။
Prous ဖြားမီးဖိုသည်ကုန်ကြမ်း area ရိယာ၏အပူချိန်နှင့်အပူချိန်တစ်ယူနီဖောင်းများကိုပိုမိုကောင်းမွန်စေသည်။ CRACHION တွင် axial အပူချိန်ကွာခြားချက်ကိုတိုးပွားစေသည်။ ကြီးထွားမှုအခန်းများတွင်ကြီးထွားမှုပရိသရိုက်ကူးမှုသည်ကြီးထွားမှုလုပ်ငန်းစဉ်တစ်လျှောက်လုံးစီးဆင်းမှုတည်ငြိမ်မှုကိုတိုးတက်စေသည်, ကြီးထွားမှု area ရိယာ၏ C / SI အချိုးအစားကိုတိုးမြှင့်ခြင်း,

(3) ခံစားခဲ့ရ
နူးညံ့သိမ်မွေ့ခြင်းနှင့်မာကျောခြင်းသည်နှစ် ဦး စလုံး SIC Crystal ကြီးထွားမှုနှင့် ejalogial link များရှိအရေးကြီးသောအပူဓာတ်ငွေ့ပစ္စည်းများ၏အခန်းကဏ် play မှပါ 0 င်သည်။

(4) ဖိုက်သတ္တုပါး
ဂရပ်ဖစ်စက္ကူသည်ကာဗွန်ဖင့်များကိုဓာတုကုသမှုနှင့်အပူချိန်မြင့်မားသောအပူချိန်မြင့်တက်ခြင်းနှင့်အပူချိန်မြင့်တက်ခြင်းတို့မှပြုလုပ်သော flash function ဖြစ်သည်။ ၎င်းတွင်အပူစီးကူးခြင်း, လျှပ်စစ်စီးကူးခြင်း, ပြောင်းလွယ်ပြင်လွယ်ခြင်းနှင့်ချေးခြင်းခံနိုင်ရည်ရှိသည်။

(5) composite ပစ္စည်းများ
Carbon-Carbon Thermal Field သည် Photovoltaic တစ်ခုတည်းသော Crystal မီးဖိုချောင်သုံးထုတ်လုပ်မှုတွင်အဓိကစားသုံးသူများထဲမှတစ်ခုဖြစ်သည်။

semicorex ထုတ်လုပ်မှု

Semicorex သည်အသုတ်, အသေးစားထုတ်လုပ်မှုသည်ထုတ်ကုန်များကိုပိုမိုထိန်းချုပ်နိုင်စေသည်။ လုပ်ငန်းစဉ်တစ်ခုလုံးကို programmable logic controllers (plcs) မှထိန်းချုပ်ထားသည်, အသေးစိတ်လုပ်ငန်းစဉ်အချက်အလက်များကိုမှတ်တမ်းတင်ထားပြီးပြည့်စုံသောဘဝလမ်းစဉ်လမ်းကြောင်းကိုဖွင့်ပေးသည်။

လှော်ခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်တစ်ခုလုံးတွင်ကွဲပြားခြားနားသောနေရာများကိုဖြတ်ပြီးခံနိုင်ရည်ရှိခြင်းနှင့်တင်းကျပ်သောအပူချိန်ထိန်းချုပ်မှုကိုထိန်းသိမ်းထားသည်။ ၎င်းသည်ဘွတ်စပ်ပစ္စည်းများ၏တစ်သားတည်းဖြစ်တည်ခြင်းနှင့်ယုံကြည်စိတ်ချရမှုကိုသေချာစေသည်။

Semicorex သည်အခြားပေးသွင်းသူများနှင့်ကွဲပြားခြားနားသောအပြည့်အဝ comstatic နှိပ်သည့်နည်းပညာကိုအသုံးချနိုင်သည်။ ဆိုလိုသည်မှာဖိုက်သည်အလွန်အမင်းယူနီဖောင်းကိုယ်နှိုက်သည်အလွန်အရေးကြီးသည်။ ပြည့်စုံသောပစ္စည်းစည်းမျဉ်းစည်းကမ်းများသည်သိပ်သည်းဆ, ခံနိုင်ရည်, ခိုင်မာမှု, ကွေးခြင်း, ကွေးခြင်း,