Semicorex Silicon Pedestal သည် မကြာခဏ သတိမမူမိသေးသော်လည်း အရေးပါသော အစိတ်အပိုင်းတစ်ခုဖြစ်ပြီး ဆီမီးကွန်ဒတ်တာပျံ့နှံ့ခြင်းနှင့် ဓာတ်တိုးခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်များတွင် တိကျပြီး ထပ်တလဲလဲရနိုင်သောရလဒ်များရရှိရန် အရေးကြီးသောအခန်းကဏ္ဍမှပါဝင်ပါသည်။ အပူချိန်မြင့်သော မီးဖိုများအတွင်း ဆီလီကွန်လှေများ အနားယူနိုင်သည့် အထူးပြုပလပ်ဖောင်းသည် အပူချိန် တူညီမှု၊ ပိုမိုကောင်းမွန်သော wafer အရည်အသွေးနှင့် နောက်ဆုံးတွင် သာလွန်သော ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ ကိရိယာ၏ စွမ်းဆောင်ရည်ကို တိုက်ရိုက် ပံ့ပိုးပေးသည့် ထူးခြားသော အားသာချက်များကို ပေးဆောင်ပါသည်။**
1. အကောင်းဆုံးရလဒ်များအတွက် Semicorex Silicon Pedestal သည် လုပ်ဆောင်ချက်ပတ်ဝန်းကျင်ကို တည်ငြိမ်စေသည်-
Crystal Boats အတွက် တည်ငြိမ်သောဖောင်ဒေးရှင်းကို ဖန်တီးခြင်း- Silicon Pedestal သည် အပူချိန်မြင့်မားသော မီးဖိုခန်းအတွင်းရှိ ဆီလီကွန်လှေများအတွက် ကြံ့ခိုင်ပြီး အပူဓာတ်တည်ငြိမ်သော ပလပ်ဖောင်းကို ပံ့ပိုးပေးပါသည်။ ဤတည်ငြိမ်မှုသည် လုပ်ငန်းစဉ်တစ်လျှောက်လုံး လှေများသည် ၎င်းတို့၏ အနေအထားနှင့် တိမ်းညွှတ်မှုကို ထိန်းသိမ်းထားပြီး ဓာတ်ငွေ့စီးဆင်းမှု ဒိုင်နနမစ်များကို နှောက်ယှက်နိုင်သည့် မလိုလားအပ်သော ရွေ့လျားမှု သို့မဟုတ် တိမ်းစောင်းခြင်းကို တားဆီးပေးပါသည်။
တုံ့ပြန်မှုခန်းအတွင်း အပူချိန်တူညီမှုကို မြှင့်တင်ခြင်း-ဆီလီကွန်လှေအား မီးဖိုကြမ်းပြင်နှင့် နံရံများမှ ထိရောက်စွာခွဲထုတ်ခြင်းဖြင့်၊ Silicon Pedestal သည် conduction မှတဆင့် အပူဆုံးရှုံးမှုကို လျော့နည်းစေပြီး အပူဓါတ်ပြုပြွန်အတွင်း ပိုမိုတူညီသောအပူချိန်ဖြန့်ဖြူးမှုကို မြှင့်တင်ပေးပါသည်။ ဤတိုးမြှင့်ထားသော အပူပိုင်းစီမံခန့်ခွဲမှုစွမ်းရည်သည် wafer မျက်နှာပြင်တစ်ခုလုံးတစ်လျှောက် တစ်သမတ်တည်းနှင့် ထပ်ခါတလဲလဲ ပျံ့နှံ့မှု သို့မဟုတ် ဓာတ်တိုးဆန့်ကျင်မှုပရိုဖိုင်များကို ရရှိရန်အတွက် အရေးကြီးပါသည်။
အကောင်းဆုံးစွမ်းအင်အသုံးပြုမှုအတွက် လျှပ်ကာ စွမ်းဆောင်ရည်ကို မြှင့်တင်ခြင်း-Silicon Pedestal ၏ မွေးရာပါ အပူလျှပ်ကာ ဂုဏ်သတ္တိများသည် ပတ်၀န်းကျင်တွင် အပူဆုံးရှုံးမှုကို လျှော့ချခြင်းဖြင့် ပိုမိုစွမ်းအင်သက်သာသည့် လုပ်ငန်းစဉ်ကို အထောက်အကူပြုပါသည်။ ၎င်းသည် ပိုမိုမြန်ဆန်သော အပူနှင့် အအေးစက်ဝန်းများ၊ စွမ်းအင်သုံးစွဲမှု လျှော့ချပြီး နောက်ဆုံးတွင်၊ အလုံးစုံ စီမံဆောင်ရွက်ပေးသည့် ကုန်ကျစရိတ်များကို လျှော့ချပေးသည်။
2. ပိုမိုကောင်းမွန်သော Wafer အရည်အသွေးအတွက် Material Synergy-
လျှော့ချထားသော Wafer Stress အတွက် အပူပိုင်းချဲ့ထွင်ခြင်း-လှေများနှင့် wafers များကဲ့သို့ တူညီသော သန့်စင်မြင့်မားသော ဆီလီကွန်ပစ္စည်းမှ ဖန်တီးထားသည့် Silicon Pedestal သည် quartz သို့မဟုတ် silicon carbide ကဲ့သို့သော အခြားပစ္စည်းများထက် အရေးကြီးသော အားသာချက်ကို ပေးပါသည်။ ဤအရာအား ပေါင်းစပ်ပေါင်းစပ်ခြင်းဖြင့် ခြေခံခုံ၊ လှေနှင့် wafer များသည် အပူနှင့်အအေးစက်ဝန်းအတွင်း တူညီသောနှုန်းထားများဖြင့် ချဲ့ထွင်ကာ ကျုံ့နိုင်စေပြီး အပူဖိစီးမှုအန္တရာယ်၊ wafer ဦးညွှတ်ခြင်းနှင့် စက်ပစ္စည်းအထွက်နှုန်းနှင့် စွမ်းဆောင်ရည်ကို အပျက်သဘောဆောင်သော ပုံဆောင်ခဲပုံဆောင်ခဲချို့ယွင်းမှုအန္တရာယ်ကို လျော့နည်းစေပါသည်။
ညစ်ညမ်းမှုနှင့် ကြမ်းခင်းများ မကိုက်ညီမှုများကို လျှော့ချခြင်း-Silicon Pedestal နှင့် လှေနှစ်ခုလုံးအတွက် သန့်ရှင်းစင်ကြယ်သော ဆီလီကွန်ကို အသုံးပြုခြင်းသည် ပုံစံတူပစ္စည်းများမှ ညစ်ညမ်းမှုအလားအလာကို ဖယ်ရှားပေးကာ wafers များအတွက် သန့်ရှင်းသော စီမံဆောင်ရွက်ပေးသည့် ပတ်ဝန်းကျင်ကို အာမခံပါသည်။ ဤပစ္စည်းနှင့် လိုက်ဖက်ညီမှုသည် wafer-boat interface တွင် ရာဇမတ်ကွက်များ မကိုက်ညီမှုအန္တရာယ်ကို လျော့နည်းစေပြီး ပိုမိုကောင်းမွန်သော ပုံဆောင်ခဲအရည်အသွေးနှင့် ချို့ယွင်းချက်သိပ်သည်းဆကို လျှော့ချပေးပါသည်။