အသုံးများသော Semiconductor Quartz အစိတ်အပိုင်းများနှင့် အသုံးချမှုများ

Quartz သည် ဆီလီကွန်ဒိုင်အောက်ဆိုဒ်ဖြင့် ဖွဲ့စည်းထားသည့် သုံးဖက်မြင် ပုံဆောင်ခဲတစ်ခုဖြစ်သည့် trigonal crystal system မှ ပါဝင်သည်။ ပုံမှန်အားဖြင့်၊ သန့်စင်သော quartz သည် အရောင်ကင်းစင်ပြီး ပွင့်လင်းမြင်သာမှုရှိသော်လည်း ခြေရာခံရောင်ခြယ်ပစ္စည်း အိုင်းယွန်းများ၊ သေးငယ်စွာ ပြန့်ကျဲနေသော ပါဝင်မှုများ သို့မဟုတ် အရောင်စင်တာများဖွဲ့စည်းခြင်း၏ ရလဒ်အနေဖြင့် အရောင်အမျိုးမျိုးကို အသုံးပြုသည်။ အလွန်ကောင်းမွန်သော ဂုဏ်သတ္တိများစွာဖြင့်၊ quartz ကို ဆီမီးကွန်ဒတ်တာထုတ်လုပ်ခြင်း၏ လုပ်ငန်းစဉ်အမျိုးမျိုးတွင် တွင်ကျယ်စွာအသုံးချပြီး ၎င်း၏စွမ်းဆောင်ရည်နှင့် အရည်အသွေးသည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာကိရိယာများ၏ အထွက်နှုန်း၊ စွမ်းဆောင်ရည်နှင့် ကုန်ကျစရိတ်တို့ကို တိုက်ရိုက်ထိခိုက်စေပါသည်။

1. Quartz Crucible

ဟိquartz crucibles များမြင့်မားသောအပူချိန် monocrystalline silicon ကြီးထွားမှုလုပ်ငန်းစဉ်တွင် polycrystalline silicon ကုန်ကြမ်းများကိုကိုင်ဆောင်ရန်အသုံးပြုသည်။ တည်ငြိမ်သောပံ့ပိုးကူညီမှုပစ္စည်းများသေချာစေရန်၊ ကြမ်းတမ်းသောအပူချိန်မြင့်မားသောလည်ပတ်မှုအခြေအနေများ၏စိန်ခေါ်မှုများကိုခံနိုင်ရည်ရှိစေရန်အတွက် အလွန်ကောင်းမွန်သောအပူချိန်မြင့်တည်ငြိမ်မှု (အရည်ပျော်မှတ်> 1700 ℃) နှင့် ကြမ်းတမ်းသောအပူချိန်မြင့်မားသောလည်ပတ်မှုအခြေအနေများ၏စိန်ခေါ်မှုများကိုခံနိုင်ရည်ရှိစေရန်အတွက် တည်ငြိမ်သောအထောက်အပံ့ပစ္စည်းများကိုသေချာစေရန်အတွက်လိုအပ်ပါသည်။ တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း အသုံးချမှုများအတွက် Quartz crucibles များကို အဆင့် 4N8 သို့မဟုတ် ထို့ထက် ပိုမြင့်သော သန့်စင်သော quartz မှ ထုတ်လုပ်ရန် လိုအပ်ပါသည်။ ဤပညာရှိပစ္စည်းရွေးချယ်မှုများသည် အပူချိန်မြင့်မားမှုကြောင့် quartz crucible မှအညစ်အကြေးမိုးရွာခြင်းကြောင့်ဖြစ်ရသည့် crystal ညစ်ညမ်းမှုအန္တရာယ်များကို ထိရောက်စွာလျှော့ချပေးနိုင်ပါသည်။

Quartz မီးဖိုပြွန်များသည် အများအားဖြင့် ပျံ့နှံ့မှု၊ ဓာတ်တိုးမှုနှင့် ဓာတုငွေ့ထုတ်လွှတ်မှု (CVD) ကဲ့သို့သော wafer ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်များအတွက် အပူချိန်မြင့်မားသောတုံ့ပြန်မှုအခန်းများအဖြစ် ဆောင်ရွက်ကြသည်။ ဒါကြောင့်quartz မီးဖိုပြွန်အပူချိန်မြင့်သောပတ်ဝန်းကျင်ကြောင့် ၎င်းတို့ကို ပုံပျက်စေခြင်း သို့မဟုတ် ပျော့ပျောင်းခြင်းမှ ကာကွယ်ရန် အထူးကောင်းမွန်သော အပူချိန်ခံနိုင်ရည်ရှိရန် လိုအပ်ပါသည်။ အချို့သောလုပ်ငန်းစဉ်များတွင်၊ အပူပိုင်းတည်ငြိမ်မှုအပေါ် hydroxyl အုပ်စုများ၏အကျိုးသက်ရောက်မှုကိုလျှော့ချရန် dehydroxylation ကုသမှုသည်ပင်လိုအပ်သည်။ Quartz မီးဖိုပြွန်များထုတ်လုပ်ရာတွင် သတ္တုညစ်ညမ်းမှုပါဝင်မှု ≤1 ppm ရှိသော သန့်စင်မှုမြင့်မားသော quartz ပစ္စည်းလည်း လိုအပ်ပါသည်။

Quartz လှေများကို အများအားဖြင့် wafers ရာပေါင်းများစွာအထိ သယ်ဆောင်ခြင်းနှင့် သယ်ယူခြင်းအတွက် quartz မီးဖိုပြွန်များနှင့် တွဲဖက်အသုံးပြုကြသည်။ ထို့ကြောင့်၊Quartz လှေများများသောအားဖြင့် quartz furnace tubes များကဲ့သို့ စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ခိုင်ခံ့မှု သတ်မှတ်ချက်များတွင် တူညီသော မြင့်မားသော အပူချိန်ခံနိုင်ရည်၊ ချေးခံနိုင်ရည်နှင့် တည်ငြိမ်ပြီး ယုံကြည်စိတ်ချရသော စွမ်းဆောင်ရည်ကို ပိုင်ဆိုင်ရန် လိုအပ်ပါသည်။

Quartz focus ကွင်းအခြောက်လှန်းခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်များအတွက် အထူးဒီဇိုင်းထုတ်ထားပါသည်။ ၎င်းတို့ကို ပလာစမာကို ချုပ်နှောင်ပြီး တစ်သားတည်းဖြစ်စေရန်အတွက် wafers ပတ်လည်တွင် ပုံမှန်အားဖြင့် တပ်ဆင်ထားပြီး၊ ထွင်းထုနှုန်းနှင့် wafer ပေါ်တွင် ပုံစံပုံသဏ္ဍာန်များ၏ တူညီမှုကို ထိရောက်စွာသေချာစေပါသည်။ ဤလည်ပတ်မှုပတ်ဝန်းကျင်တွင် ပလာစမာချေးကို ခိုင်ခံ့စွာခံနိုင်ရည်ရှိရန်၊ အလွန်မြင့်မားသော Dimension တိကျမှုနှင့် ပုံမှန်မဟုတ်သော စွန့်ထုတ်မှုများ သို့မဟုတ် အမှုန်အမွှားများဖြစ်ပေါ်ခြင်းကို တားဆီးရန်အတွက် ချောမွေ့သောမျက်နှာပြင်ရှိရန် လိုအပ်ပါသည်။