ဓာတ်ငွေ့ဖြန့်ဖြူးပြား

Semicorex ဓာတ်ငွေ့ဖြန့်ဖြူးမှုပြားများသည် Plasma actlocing systems တွင်အထူးသဖြင့်တိကျသောပကတိအတိုင်း Plasma actlocding system များတွင်အရေးပါသောအခန်းကဏ် plays မှပါ 0 င်သည်။ ကျွန်ုပ်တို့၏သဘာဝဓာတ်ငွေ့ဖြန့်ဖြူးမှုပန်းကန်မြင့်မားသောဓာတုဗေဒဆိုင်ရာအငွေ့စွန်းမှအင်ဂျင်နီယာအင်ဂျင်နီယာCVD SIC SIC), ခေတ်သစ်ခြောက်သွေ့သောစွဲမှုဖြစ်စဉ်များကိုတင်းကြပ်စွာတောင်းဆိုမှုများကိုဖြည့်ဆည်းရန်ဒီဇိုင်းပြုလုပ်ထားသည်။

စွဲမြဲစွာရပ်တန့်နေစဉ်အတွင်းဓာတ်ပြုခြင်းဓာတ်ငွေ့များကိုထိန်းချုပ်ထားသောဓာတ်ငွေ့များထဲသို့ 0 င်ရောက်သောမျက်နှာပြင်တွင်တသမတ်တည်းပလာစမာဖြန့်ဝေရန်သေချာစေရန်ထိန်းချုပ်ထားသည့်ထုံးစံ၌မိတ်ဆက်ပေးရမည်။ ဓာတ်ငွေ့ဖြန့်ဖြူးမှုပြားများသည်ကျယ်ပြန့်သောနေရာတွင်မဟာဗျူဟာကျသောနေရာတွင်တည်ရှိပြီး dual-function ကိုလုပ်ဆောင်သည်။ ၎င်းသည်လုပ်ငန်းစဉ်ဓာတ်ငွေ့များနှင့်ပျိုးပင်ကို ဦး စွာသိမ်းပိုက်ပြီးလျှပ်ကူးပစ္စည်းစနစ်ဆီသို့ ဦး တည်သည်။ ဤတိကျသောဓာတ်ငွေ့ပို့ဆောင်ခြင်းသည်ယူနီဖောင်း plasma ၏ဝိသေသလက္ခဏာများကိုရယူရန်အတွက်မရှိမဖြစ်လိုအပ်သည်။

တုန့်ပြန်ဓာတ်ငွေ့ဆေးရုံ၏ဆေးထိုးနည်းကိုပိုမိုကောင်းမွန်စေရန်ပိုမိုကောင်းမွန်စွာယူနီဖောင်းစွဲခြင်းများကိုပိုမိုကောင်းမွန်အောင်ပြုလုပ်နိုင်သည်။

•လူမီနီယံစွဲချုပ်ကိုင်ခြင်းအခန်း - ဓာတ်ပြုခြင်းဓာတ်ငွေ့သည်များသောအားဖြင့် wafer အထက်တွင်တည်ရှိသောရေချိုးခန်းမှတစ်ဆင့်ပေးသည်။

Silicon actloging comber: အစပိုင်းမှာဓာတ်ငွေ့ကို Wafer ရဲ့အစွန်အဖျားကနေထိုးသွင်းထားတယ်။

ဓာတ်ငွေ့ဖြန့်ဖြူးသည့်ပြားများကိုလည်း Sememonductor ထုတ်လုပ်ခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်များတွင်ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့်အသုံးပြုသောဓာတ်ငွေ့ဖြန့်ဖြူးရေးကိရိယာတစ်ခုဖြစ်သည်။ ၎င်းသည်အဓိကအားဖြင့်ဓာတ်ငွေ့ခန်းသို့ဓာတ်ငွေ့ခန်းထဲသို့အညီအမျှဖြန့်ဝေရန်အသုံးပြုသည်။ ထုတ်ကုန်တွင်တိကျမှုမြင့်မားခြင်း, မြင့်မားသောသန့်ရှင်းမှုနှင့်ပေါင်းစပ်ထားသောမျက်နှာပြင်နှင့်ပေါင်းစပ်ထားသောမျက်နှာပြင်နှင့်ပေါင်းစပ်ခြင်း, ဓာတ်ငွေ့ဖြန့်ဖြူးမှုပြားများသည်တုန့်ပြန်ခန်းတွင်တည်ရှိပြီး, ၎င်းသည် wafer ထုတ်လုပ်မှု၏အဓိကအစိတ်အပိုင်းဖြစ်သည်။

Wafer တုံ့ပြန်မှုဖြစ်စဉ်တွင်ဓာတ်ငွေ့ဖြန့်ဖြူးသောပြားများ၏မျက်နှာပြင်ကို MicroPores နှင့်ဖုံးလွှမ်းထားသည်။ တိကျစွာဒီဇိုင်းရေးဆွဲထားသောဖွဲ့စည်းပုံနှင့်သဘာဝဓာတ်ငွေ့လမ်းကြောင်းမှတစ်ဆင့်အထူးလုပ်ငန်းစဉ်သဘာဝဓာတ်ငွေ့သည်ယူနီဖောင်းဓာတ်ငွေ့ပန်းကန်ပေါ်တွင်ထောင်ပေါင်းများစွာသောတွင်းငယ်များကိုဖြတ်သန်းရန်လိုအပ်သည်။ Waffer ၏ကွဲပြားခြားနားသောဒေသများရှိရုပ်ရှင်အလွှာများသည်မြင့်မားသောစည်းလုံးညီညွတ်မှုနှင့်ရှေ့နောက်ညီညွတ်မှုကိုသေချာစေရန်လိုအပ်သည်။ ထို့ကြောင့်သန့်ရှင်းရေးနှင့်ချေးခြင်းများခံနိုင်ရည်အတွက်အလွန်မြင့်မားသောလိုအပ်ချက်များအပြင်ဓာတ်ငွေ့ခွဲဝေမှုပြားများအပြင်တွင်းသည်ယူနီဖောင်းဓာတ်ငွေ့ပန်းကန်ပေါ်ရှိတွင်းငယ်များနှင့်တွင်းနက်ပေါ်ရှိ Burrs ၏ရှေ့နောက်ညီညွတ်မှုဆိုင်ရာရှေ့နောက်ညီညွတ်မှုနှင့် ပတ်သက်. တင်းကျပ်သောလိုအပ်ချက်များကိုရှိသည်။ aperture size နှင့်ရှေ့နောက်ညီညွတ်မှုစံသွေဖည်ခြင်းသည်ကြီးမားလွန်းပါကအတွင်းပိုင်းနံရံတွင်မဆိုကြီးလွန်းပါက, Plasma-Assisted Prockes (ဥပမာ pecvd နှင့်ခြောက်သွေ့ခြင်းကဲ့သို့သော pecvd နှင့်ခြောက်သွေ့ခြင်းကဲ့သို့) ရေချိုးခန်း ဦး ခေါင်းတွင် Electrope ၏တစ်စိတ်တစ်ပိုင်းအနေဖြင့် Plasma ၏ဖြန့်ဖြူးမှုကိုမြှင့်တင်ရန် RF Power Supply မှတစ်ဆင့်ယူနီဖောင်းပစ္စည်းများကိုထုတ်လုပ်သည်။

ကျွန်တော်တို့၏CVD SIC SICဓာတ်ငွေ့ဖြန့်ဖြူးမှုပြားများသည် Sememonductor လုပ်ကြံများထုတ်လုပ်ခြင်း, Dimensions, Hotel ပုံစံများနှင့်မျက်နှာပြင်ပြီးဆုံးခြင်းအပါအ 0 င်တိကျသောကိရိယာများလိုအပ်ချက်များနှင့်ကိုက်ညီရန်စိတ်ကြိုက်ဒီဇိုင်းများကိုတီထွင်နိုင်သည်။

Sememore ဓာတ်ငွေ့ဓာတ်ငွေ့ခွဲဝေမှုပြားများက CVD SIC တွင်ပြုလုပ်ထားသော Semd Sic လုပ်ခြင်းသည်ခေတ်သစ်ပလာစတာအလားအဆီးစနစ်များတွင်အရေးကြီးသောအစိတ်အပိုင်းတစ်ခုဖြစ်ပြီးထူးခြားသောပစ္စည်းကြာရှည်ခံမှုနှင့်အနည်းဆုံးညစ်ညမ်းမှုအန္တရာယ် ယင်း၏အသုံးပြုမှုသည်အဆင့်မြင့်ဖြစ်ထွန်းမှုအရအထွက်နှုန်း, နည်းပါးလာပြတ်သားစေခြင်း,