Semicorex Electrostatic Chuck (ESC) သည် အမျိုးမျိုးသော လုပ်ဆောင်မှုအဆင့်များအတွင်း ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ wafers များကို လုံခြုံစွာ ကိုင်ဆောင်ထားနိုင်ရန် ဒီဇိုင်းထုတ်ထားသော semiconductor ထုတ်လုပ်မှုတွင် အသုံးပြုသည့် အဆင့်မြင့် အစိတ်အပိုင်းတစ်ခုဖြစ်သည်။ အရည်အသွေးမြင့် ထုတ်ကုန်များကို အပြိုင်အဆိုင် စျေးနှုန်းများဖြင့် ပေးအပ်ရန် ကျွန်ုပ်တို့၏ ကတိကဝတ်ဖြင့်၊ ကျွန်ုပ်တို့သည် တရုတ်နိုင်ငံတွင် သင်၏ ရေရှည်လက်တွဲဖော် ဖြစ်လာရန် အသင့်ရှိနေပါသည်။*
သန့်ရှင်းမှုမြင့်မားသော အလူမီနာ ကြွေထည်ကို အသုံးပြု၍ Semicorex Electrostatic Chuck သည် တိကျမှု၊ တည်ငြိမ်မှုနှင့် သန့်ရှင်းမှုကို ဦးစားပေးသည့် ဆက်တင်များတွင် ထိပ်တန်းစွမ်းဆောင်ရည်ကို ပေးဆောင်သည်။ အလူမီနီယမ်အောက်ဆိုဒ် (Al2O3) ဟုလည်းသိကြသော Alumina သည် ၎င်း၏ထူးခြားသောလျှပ်စစ်လျှပ်ကာပစ္စည်းများ၊ အပူစီးကူးနိုင်မှုနှင့် ထူးထူးခြားခြားစက်ပိုင်းဆိုင်ရာအစွမ်းကြောင့် ကျော်ကြားသောကြွေထည်ပစ္စည်းဖြစ်သည်။ ဤဂုဏ်သတ္တိများက ၎င်းအား ဆီမီးကွန်ဒတ်တာလုပ်ဆောင်ခြင်း၏ တောင်းဆိုမှုအခြေအနေများကို ခံနိုင်ရည်ရှိစေရန် ဒီဇိုင်းထုတ်ထားသည့် လျှပ်စစ်စတီကျိတ် chuck တည်ဆောက်ရန်အတွက် စံပြပစ္စည်းတစ်ခု ဖြစ်လာစေသည်။ အလူမီနာ ကြွေထည် ESC သည် မြင့်မားသော အပူချိန်၊ သံချေးတက်သော ပတ်ဝန်းကျင်နှင့် စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ဖိစီးမှုကို ခံနိုင်ရည်ရှိစေရန် အင်ဂျင်နီယာချုပ်ဖြစ်ပြီး wafer ကိုင်တွယ်ခြင်းနှင့် ပြုပြင်ခြင်းအတွင်း စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ အထွက်နှုန်းနှင့် အရည်အသွေးကို သေချာစေရန်အတွက် အရေးပါသော အခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်ပါသည်။
Electrostatic Chuck ၏ နောက်ကွယ်ရှိ အခြေခံနိယာမမှာ wafer ကို လုံခြုံစွာ ထိန်းထားရန် အသုံးပြုသော electrostatic force ဖြစ်သည်။ ကြွေထည်ပစ္စည်းအတွင်း ထည့်သွင်းထားသော လျှပ်ကူးပစ္စည်းအား ဗို့အားကို အသုံးချခြင်းဖြင့် ဤစွမ်းအားကို ထုတ်ပေးပါသည်။ wafer မျက်နှာပြင်ပေါ်ရှိ electrostatic field နှင့် induced charges များကြား အပြန်အလှန်အကျိုးသက်ရောက်မှုသည် chuck ၏မျက်နှာပြင်နှင့် wafer ကို ထိန်းထားနိုင်သော ခိုင်ခံ့သောကုပ်အားကိုဖန်တီးပေးပါသည်။ အလူမီနာ ကြွေထည် ESC ၏ ဒီဇိုင်းသည် ဤကုပ်တွယ်မှုအား wafer တစ်လျှောက် အညီအမျှ ဖြန့်ဝေကြောင်း သေချာစေပြီး စီမံဆောင်ရွက်နေစဉ်အတွင်း ချော်ထွက်ခြင်း သို့မဟုတ် ပျက်စီးမှုအန္တရာယ်ကို လျော့နည်းစေပါသည်။
Electrostatic Chuck ဆောက်လုပ်ရေးတွင် alumina ceramic ကိုအသုံးပြုခြင်း၏အဓိကအားသာချက်တစ်ခုမှာ၎င်း၏ထူးခြားသောလျှပ်စစ်လျှပ်ကာဂုဏ်သတ္တိများဖြစ်သည်။ Alumina ၏မြင့်မားသော dielectric strength သည် electrostatic field ၏ခိုင်မာမှုကိုထိန်းသိမ်းရန်အတွက်အရေးကြီးသောလျှပ်စစ်ပျက်ယွင်းမှုအန္တရာယ်မရှိဘဲမြင့်မားသောဗို့အားများကိုအသုံးချရန်ခွင့်ပြုသည်။ wafer သည် အလွန်တုံ့ပြန်မှုရှိသောပတ်ဝန်းကျင်များနှင့် ထိတွေ့သည့် ပလာစမာ etching သို့မဟုတ် chemical vapor deposition ကဲ့သို့သော လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် အထူးအရေးကြီးပြီး clamping force ကွဲပြားမှုသည် wafer တွင် ချို့ယွင်းချက် သို့မဟုတ် ပျက်စီးမှုများ ဖြစ်ပေါ်နိုင်သည်။
၎င်း၏လျှပ်စစ်ဂုဏ်သတ္တိများအပြင်၊ အလူမီနီယမ်ကြွေထည်သည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာလုပ်ဆောင်နေစဉ်အတွင်း ထုတ်ပေးသည့် အပူကို စီမံခန့်ခွဲရန်အတွက် အလွန်ကောင်းမွန်သော အပူစီးကူးမှုကို ပြသသည်။ Electrostatic Chuck ၏ အပူကို ထိရောက်စွာ ချေဖျက်နိုင်စွမ်းသည် wafer တစ်လျှောက် တည်ငြိမ်သော အပူချိန်ကို ထိန်းသိမ်းရန် ကူညီပေးပြီး ကွဲထွက်ခြင်း သို့မဟုတ် အခြားသော အပူဖိစီးမှုပုံစံများကို ဖြစ်ပေါ်စေနိုင်သည့် အပူရောင်ခြယ်များကို လျှော့ချပေးသည်။ အပူချိန်အနည်းငယ်သွေဖည်သွားသည့်တိုင် ရလဒ်ကို ထိခိုက်စေနိုင်သည့် photolithography ကဲ့သို့သော လုပ်ငန်းစဉ်များ၏ တိကျမှုနှင့် ထပ်တလဲလဲဖြစ်နိုင်မှုတို့ကို သေချာစေရန်အတွက် ဤအပူတည်ငြိမ်မှုသည် အရေးကြီးပါသည်။