Semicorex ၏ ICP etching wafer ကိုင်ဆောင်ခြင်းသည် epitaxy နှင့် MOCVD ကဲ့သို့သော အပူချိန်မြင့်သော wafer ကိုင်တွယ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်များအတွက် ပြီးပြည့်စုံသောဖြေရှင်းချက်ဖြစ်သည်။ တည်ငြိမ်ပြီး အပူချိန် 1600 ဒီဂရီစင်တီဂရိတ်အထိရှိသော ဓာတ်တိုးဆန့်ကျင်မှုကို ခံနိုင်ရည်ရှိသဖြင့် ကျွန်ုပ်တို့၏ သယ်ဆောင်သူများသည် အပူပရိုဖိုင်းများ၊ laminar ဓာတ်ငွေ့ စီးဆင်းမှုပုံစံများကိုပင် သေချာစေပြီး ညစ်ညမ်းခြင်း သို့မဟုတ် အညစ်အကြေးများ ပျံ့နှံ့ခြင်းကို ကာကွယ်ပေးပါသည်။
ပိုပြီးဖတ်ပါစုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။