ICP Etching Process အတွက် Semicorex ၏ SiC Plate သည် ပါးလွှာသော ဖလင်များ စုဆောင်းခြင်းနှင့် wafer ကိုင်တွယ်ခြင်းအတွက် အပူချိန်မြင့်မားပြီး ကြမ်းတမ်းသော ဓာတုဗေဒလုပ်ဆောင်မှုလိုအပ်ချက်များအတွက် ပြီးပြည့်စုံသော ဖြေရှင်းချက်ဖြစ်သည်။ ကျွန်ုပ်တို့၏ထုတ်ကုန်သည် သာလွန်ကောင်းမွန်သောအပူဒဏ်ခံနိုင်ရည်ရှိပြီး အပူတူညီမှုပင်ရှိသောကြောင့် တစ်သမတ်တည်း epi layer အထူနှင့်ခံနိုင်ရည်ရှိစေပါသည်။ သန့်ရှင်းပြီး ချောမွေ့သော မျက်နှာပြင်ဖြင့် ကျွန်ုပ်တို့၏ သန့်ရှင်းမှုမြင့်မားသော SiC crystal coating သည် သန့်စင်သော wafers များအတွက် အကောင်းဆုံးသော ကိုင်တွယ်မှုကို ပံ့ပိုးပေးပါသည်။
ပိုပြီးဖတ်ပါစုံစမ်းမေးမြန်းရန်ပေးပို့ပါ။