MOCVD စနစ်ဆိုတာဘာလဲ။

Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) ဟုလူသိများသော MOCVD သည် ပါးလွှာသော semiconductor films များကို အလွှာတစ်ခုပေါ်တွင် ကြီးထွားစေသည့်နည်းပညာတစ်ခုဖြစ်သည်။ MOCVD ဖြင့်၊ တိကျသောအလင်းနှင့်လျှပ်စစ်ဆိုင်ရာဂုဏ်သတ္တိများရှိသောပစ္စည်းများကိုဖွဲ့စည်းရန်ထိန်းချုပ်ထားသောအထူရှိသည့်တစ်ခုစီသည်ကြီးမားသောတိကျမှုဖြင့် nano-layers များစွာကိုစုဆောင်းနိုင်သည်။

MOCVD စနစ်သည် ဓာတုအငွေ့ပျံခြင်း (CVD) စနစ်အမျိုးအစားတစ်ခုဖြစ်ပြီး သတ္တုအော်ဂဲနစ်ရှေ့ပြေးပရိုတင်းများကို အသုံးပြုကာ ပါးလွှာသောရုပ်ရှင်များကို အလွှာတစ်ခုပေါ်သို့ အပ်နှံရန်။ ယင်းစနစ်တွင် ဓာတ်ပေါင်းဖို အိုးတစ်လုံး၊ ဓာတ်ငွေ့ ပေးပို့သည့်စနစ်၊ အလွှာတစ်ခု နှင့် အပူချိန်ထိန်းစနစ်တို့ ပါဝင်သည်။ သတ္တုအော်ဂဲနစ်ရှေ့ပြေးနိမိတ်များကို ဓာတ်ပေါင်းဖိုအိုးထဲသို့ သယ်ဆောင်သည့်ဓာတ်ငွေ့နှင့်အတူ ထည့်သွင်းထားပြီး အရည်အသွေးမြင့် ပါးလွှာသောဖလင်တစ်ခု ကြီးထွားလာစေရန် အပူချိန်ကို ဂရုတစိုက်ထိန်းချုပ်ထားသည်။

MOCVD ကိုအသုံးပြုခြင်းသည် အခြားသော စုဆောင်းခြင်းနည်းပညာများထက် အားသာချက်များစွာရှိသည်။ အားသာချက်တစ်ခုမှာ ၎င်းသည် ပါးလွှာသောရုပ်ရှင်များ၏ အထူနှင့် ဖွဲ့စည်းမှုအပေါ် တိကျသောထိန်းချုပ်မှုဖြင့် ရှုပ်ထွေးသောပစ္စည်းများကို အပ်နှံနိုင်စေခြင်းဖြစ်ပါသည်။ ပါးလွှာသောဖလင်များ၏ ပစ္စည်းဂုဏ်သတ္တိများသည် စက်ပစ္စည်း၏စွမ်းဆောင်ရည်အပေါ် သိသာထင်ရှားသောအကျိုးသက်ရောက်မှုရှိစေသည့် စွမ်းဆောင်ရည်မြင့်တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးကိရိယာများထုတ်လုပ်ရန်အတွက် အထူးအရေးကြီးပါသည်။

MOCVD ၏နောက်ထပ်အားသာချက်မှာ ဆီလီကွန်၊ နီလာနှင့် ဂယ်လီယမ် အာဆင်းနိုက် အပါအဝင် ပါးလွှာသောရုပ်ရှင်များကို အလွှာအမျိုးမျိုးတွင် အပ်နှံရန် အသုံးပြုနိုင်သည်။ ဤပျော့ပြောင်းမှုသည် ကွန်ပျူတာချစ်ပ်များမှ LED များအထိ ကျယ်ပြန့်သော semiconductor ကိရိယာများ ထုတ်လုပ်ရေးတွင် မရှိမဖြစ်လိုအပ်သော လုပ်ငန်းစဉ်တစ်ခု ဖြစ်လာစေသည်။

MOCVD စနစ်များကို ဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်မှုလုပ်ငန်းတွင် တွင်ကျယ်စွာအသုံးပြုကြပြီး ၎င်းတို့သည် ခေတ်မီနည်းပညာများစွာကို ဖော်ဆောင်ရာတွင် အဓိကကျပါသည်။ ဥပမာအားဖြင့်၊ MOCVD ကို အလင်းရောင်နှင့် ပြသခြင်းဆိုင်ရာ အသုံးချမှုများအတွက် စွမ်းဆောင်ရည်မြင့် LEDs များအပြင် photovoltaic applications များအတွက် စွမ်းဆောင်ရည်မြင့် ဆိုလာဆဲလ်များကို အသုံးပြုထားသည်။