MOCVD သည် အဓိက ကိရိယာဖြစ်သည်။

MOCVD စက်ပစ္စည်းများသည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်မှုလုပ်ငန်း၏ ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်တွင် အဓိကစက်ပစ္စည်းများဖြစ်ပြီး ဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်မှုလုပ်ငန်းကွင်းဆက်တွင် စက်ကိရိယာရင်းနှီးမြှပ်နှံမှုအများအပြား (အဓိကလုပ်ငန်းစဉ်သုံးရပ်နှင့် စက်ပစ္စည်းများ- lithography၊ etching၊ thin film deposition)၊ LED ထုတ်လုပ်မှုလိုင်း ရင်းနှီးမြှုပ်နှံမှု၊ MOCVD၊ ရင်းနှီးမြှုပ်နှံမှုပမာဏသည် 50% အထိရှိနိုင်သည်။ CVD စက်များတွင်၊ အလွှာကို သတ္တုပေါ်တွင် တိုက်ရိုက်မတင်နိုင်ပါ သို့မဟုတ် epitaxial deposition အတွက် base ၏အပေါ်ထပ်တွင် ရိုးရှင်းစွာထားနိုင်ပါသည်၊ အကြောင်းမှာ ၎င်းတွင် gas flow direction (အလျားလိုက်၊ ဒေါင်လိုက်)၊ အပူချိန်၊ ဖိအား၊ fixation ကဲ့သို့သော အကြောင်းအရင်းများစွာ၏ လွှမ်းမိုးမှုပါဝင်သောကြောင့်၊ ၊ ညစ်ညမ်းစေခြင်း။ ထို့ကြောင့်၊ အခြေစိုက်စခန်းကိုအသုံးပြုပြီး အလွှာကိုဒစ်တစ်ခုပေါ်တွင်ထားရှိကာ CVD နည်းပညာကိုအသုံးပြု၍ အလွှာ၏ထိပ်တွင် epitaxial deposition ကိုလုပ်ဆောင်သည်။ ဤအခြေခံသည် SiC-coated ဂရပ်ဖိုက်ဖြစ်သည်။သည်းခံသည်။(ဒါကို A လို့လဲခေါ်နိုင်ပါတယ်။သယ်ဆောင်သူ) နှင့်၎င်း၏ဖွဲ့စည်းပုံကိုအောက်ပါပုံတွင်ပြသထားသည်။