CVD မီးဖိုအကြောင်း ဆွေးနွေးခြင်း။

တစ်ခုကဘာလဲCVD မီးဖို?

CVD (Chemical Vapor Deposition) မီးဖိုသည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်မှုလုပ်ငန်းတွင် အသုံးပြုသည့် မီးဖိုအမျိုးအစားဖြစ်ပြီး ပါးလွှာသောဖလင်များကို အမျိုးမျိုးသောပစ္စည်းများကို အလွှာတစ်ခုပေါ်သို့ အပ်နှံရန်။ လုပ်ငန်းစဉ်ကို လေဟာနယ် သို့မဟုတ် ဖိအားနည်းသော ပတ်ဝန်းကျင်တွင် လုပ်ဆောင်ပြီး အလိုရှိသော ပါးလွှာသော ဖလင်ကို ဖန်တီးရန် အလွှာပစ္စည်းနှင့် ဓာတ်ပြုသော ဓာတ်ပြုဓာတ်ငွေ့ကို အသုံးပြုသည်။ CVD မီးဖိုသည် မိုက်ခရိုချစ်ပ်များ၊ ဆိုလာဆဲလ်များနှင့် အခြားသော အီလက်ထရွန်နစ်ပစ္စည်းများ ထုတ်လုပ်ရန်အတွက် အရေးကြီးသောကိရိယာတစ်ခုဖြစ်သည်။

CVD မီးဖိုသည်မည်သို့အလုပ်လုပ်သနည်း။

CVD မီးဖိုအခန်းတွင်းရှိ ဖိအားနည်းသော ပတ်ဝန်းကျင်ကို ဖန်တီးပြီး အခန်းထဲသို့ ဓာတ်ပြုသောဓာတ်ငွေ့ကို မိတ်ဆက်ခြင်းဖြင့် အလုပ်လုပ်သည်။ ဓာတ်ငွေ့သည် အောက်စထရိတ်ပစ္စည်းနှင့် ဓာတ်ပြုပြီး အလွှာ၏ မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် ပါးလွှာသော ဖလင်တစ်ခုအဖြစ် ဖွဲ့စည်းသည်။ အပ်နှံထားသော ပစ္စည်းအမျိုးအစားပေါ် မူတည်၍ ပုံမှန်အားဖြင့် 500°C မှ 1200°C ကြား မြင့်မားသောအပူချိန်တွင် လုပ်ဆောင်သည်။

အလွှာပစ္စည်းများကို မီးဖိုခန်းအတွင်းတွင် ထားရှိထားပြီး အခန်းကို အလုံပိတ်ထားသည်။ ထို့နောက် ဓာတ်ပြုဓာတ်ငွေ့ကို အခန်းထဲသို့ ထည့်သွင်းပြီး မြင့်မားသော အပူချိန်သို့ အပူပေးသည်။ ဓာတ်ငွေ့မော်လီကျူးများသည် ဆပ်စထရိတ်ပစ္စည်းနှင့် ဓာတ်ပြုပြီး ထွက်ပေါ်လာသော ထုတ်ကုန်သည် အလွှာ၏မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် ပါးလွှာသောဖလင်ပြားကို ဖွဲ့စည်းသည်။

CVD မီးဖို၏ အသုံးချပုံများမှာ အဘယ်နည်း။

CVD မီးဖိုဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်မှုလုပ်ငန်းတွင် ကျယ်ပြန့်သောအသုံးချပရိုဂရမ်များ ပါဝင်သည်။

1. ဆီလီကွန်ဒိုင်အောက်ဆိုဒ်၊ ဆီလီကွန်နိုက်ထရိတ်နှင့် မိုက်ခရိုချစ်ပ်ထုတ်လုပ်ရာတွင် အသုံးပြုသည့် အခြား dielectric ပစ္စည်းများ စုဆောင်းခြင်း။

2. မိုက်ခရိုချစ်ပ်များ ထုတ်လုပ်ရာတွင် အသုံးပြုသည့် ပိုလီဆီလီကွန်နှင့် အခြားလျှပ်ကူးပစ္စည်း များ စုဆောင်းခြင်း။

3.အလူမီနီယမ်နှင့် ကြေးနီကဲ့သို့သော သတ္တုရုပ်ရှင်များ၏ ဖြစ်ထွန်းမှုကို မိုက်ခရိုချစ်ပ်တစ်ခု၏ မတူညီသောအလွှာများကြား အပြန်အလှန်ချိတ်ဆက်ရာတွင် အသုံးပြုသည်။

4. ဆိုလာဆဲလ်များ ထုတ်လုပ်မှုအတွက် ပါးလွှာသော ရုပ်ရှင်များ ဖြစ်ထွန်းသည်။

5. ဝတ်ဆင်ခံနိုင်သော အစိတ်အပိုင်းများနှင့် ကိရိယာများ ထုတ်လုပ်ရန်အတွက် အပေါ်ယံအလွှာများ စုဆောင်းခြင်း။

နိဂုံးချုပ်အားဖြင့်,CVD မီးဖိုမိုက်ခရိုချစ်ပ်များ၊ ဆိုလာဆဲလ်များနှင့် အခြားသော အီလက်ထရွန်နစ်ပစ္စည်းများ ထုတ်လုပ်နိုင်စေရန်အတွက် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးစက်လုပ်ငန်းအတွက် အရေးပါသောကိရိယာတစ်ခုဖြစ်သည်။ ၎င်းသည် အခန်းအတွင်းရှိ ဖိအားနည်းသောပတ်ဝန်းကျင်ကို ဖန်တီးကာ ပါးလွှာသောဖလင်တစ်ခုအဖြစ် ဖန်တီးရန် အလွှာပစ္စည်းနှင့် ဓာတ်ပြုသော ဓာတ်ပြုဓာတ်ငွေ့ကို မိတ်ဆက်ခြင်းဖြင့် အလုပ်လုပ်သည်။ ၎င်း၏အသုံးချပရိုဂရမ်များသည် ကျယ်ပြောလှပြီး ကွဲပြားသောကြောင့် ၎င်းသည် ခေတ်မီနည်းပညာအတွက် အရေးပါသောကိရိယာတစ်ခုဖြစ်လာသည်။